[发明专利]一种AlB2型WB2硬质涂层及其制备工艺

权利要求书

1.一种AlB₂型WB₂硬质涂层，其特征在于：所述AlB₂型WB₂硬质涂层沉积在高速钢或硬质合金基材表面，涂层与基材的结合力大于50N，涂层硬度≥40GPa。

2.根据权利要求1所述的AlB₂型WB₂硬质涂层，其特征在于：涂层厚度为1～3μm，涂层的平均摩擦系数为～0.23，磨损率为6.5x10^-6mm³N^-1m^-1。

3.根据权利要求1所述的AlB₂型WB₂硬质涂层的制备工艺，其特征在于：该工艺是选择WB₂型WB₂为靶材，采用直流磁控溅射技术在基材表面沉积AlB₂型WB₂涂层。

4.根据权利要求3所述的AlB₂型WB₂硬质涂层的制备工艺，其特征在于：该工艺包括如下步骤：

（1）预处理过程：沉积前需对基材进行预处理，具体为：将基材打磨至Ra＝0.4μm，然后先用丙酮超声清洗15min，再用酒精漂洗后烘干；待真空室内真空度达到5×10^-3Pa～1×10^-2Pa时，先通入氩气，气压控制在0.5～2Pa之间，然后开启基体偏压至-100V～-300V范围，使气体发生辉光放电，对基材进行辉光清洗5～15分钟；

（2）采用直流磁控溅射技术沉积WB₂涂层，工艺参数为：靶基距50～100mm，设定气压为0.2-0.8Pa，靶电压300～400V，电流0.5～1.5A，基体偏压为0～-300V，占空比20～40％，沉积温度100～700℃。

（3）沉积结束后，停止通入氩气，关闭基体偏压电源，关闭溅射电源开关，继续抽真空，样品随炉冷却至50℃以下，将样品从炉内取出。

5.根据权利要求4所述的AlB₂型WB₂硬质涂层的制备工艺，其特征在于：步骤（2）中，根据所需涂层厚度设定沉积时间。