[发明专利]防带电性剥离剂、防带电性剥离涂膜及防带电性剥离基材

说明书

技术领域

本发明涉及防带电性剥离剂、防带电性剥离涂膜及防带电性剥离基材。

背景技术

塑料薄膜和纸张等表面涂覆有机硅类剥离剂的基材被作为剥离基材广泛使用。

但是，上述基材容易带电，涂覆硅类剥离剂后，往往更容易带电。因此，需要赋予剥离基材防带电性。

一直以来，表面活性剂等离子导电性化合物被作为防带电剂广泛使用，但由于导电性具有湿度依赖性，因此离子导电性化合物的防带电性不稳定，而且，具有会从剥离基材渗出的问题。因此，已知可使用导电性没有湿度依赖性、且不会渗出的π共轭类导电性高分子作为用于赋予剥离基材防带电性的防带电剂。

π共轭类导电性高分子是具有不溶性及不熔性的物质，不适用于涂覆和挤出层叠。因此，在专利文献1中，公开了添加聚阴离子作为掺杂剂兼表面活性剂的π共轭类导电性高分子的水分散液。

然而，近年，显示器需要更高的精细性，尤其是在零件装配领域，装配速度需要进一步提高。因此，对用于光学用途的保护膜、用于电子电器零件的防带电性剥离基材的需求在增长。

对于这些需求，专利文献2提出了使用包含加成固化型有机硅乳液和噻吩类导电性高分子的剥离剂的剥离基材。然而，专利文献2中记载的剥离剂，作为水溶液其储存稳定性低，存在着2至3天后凝胶化而不能使用的问题。而且，即使勉强将凝胶化后的剥离剂涂覆在基材上形成涂膜，也不能获得目标防带电性以及剥离性。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本国专利2636968号公报

专利文献2：特开2002-241613号公报

发明内容

发明要解决的课题

本发明的目的在于提供一种用于形成防带电性剥离涂膜的、具有良好的储存稳定性的防带电性剥离剂。而且，本发明的目的还在于提供一种具备良好的防带电性和剥离性的防带电性剥离涂膜、以及具备上述涂膜的防带电性剥离基材。

解决课题的手段

本发明具有如下方式：

[1]一种防带电性剥离剂，含有：导电性高分子复合体的水溶液、碱化合物、有机硅乳液和分散介质，所述导电性高分子复合体由π共轭类导电性高分子和分子内具有阴离子基团的聚阴离子构成；碱化合物是选自由无机碱、胺化合物以及含氮芳香族性环状化合物组成的组中的一种以上的化合物；相对于所述导电性高分子复合体的中和当量的摩尔数，所述碱化合物的含量为0.7倍摩尔以上；防带电性剥离剂的25℃的pH为10以下。

[2]根据[1]所述的防带电性剥离剂，其中，有机硅乳液含有加成反应型有机硅树脂。

[3]一种防带电性剥离涂膜，涂覆了[1]或[2]所述的防带电性剥离剂而形成。

[4]一种防带电剥离基材，其包括基材、以及在该基材的至少一个面上设置的[3]所述的防带电性剥离涂膜。

而且，本发明还具有如下侧面：

〈1〉一种防带电性剥离剂，含有：由π共轭类导电性高分子和分子中具有阴离子基团的聚阴离子构成的导电性高分子复合体的水溶液、碱化合物、有机硅乳液及分散介质；上述碱化合物是从由无机碱、胺化合物、含氮芳香族性环状化合物组成的组合中选出的至少一种化合物；上述防带电性剥离剂中的上述碱化合物的含量相对上述导电性高分子复合体的中和当量为0.7倍摩尔以上；上述防带电性剥离剂的25℃的pH为10以下。

〈2〉根据〈1〉所述的防带电性剥离剂，其中，上述有机硅乳液包含加成反应型有机硅树脂。

〈3〉一种防带电性剥离涂膜，其涂覆了〈1〉或〈2〉所述的防带电性剥离剂而形成。

〈4〉一种防带电性剥离基材，其是包括基材、以及〈3〉所述的防带电性剥离涂膜的防带电剥离基材，上述防带电性剥离涂膜层叠在上述基材上。

〈5〉根据〈1〉至〈4〉中的任一项所述的防带电性剥离剂，其中，上述碱化合物是由氢氧化钠、氢氧化钾、氢氧化钙、氨、碳酸氢钠、碳酸氢钾及碳酸氢铵组成的组合中选出的至少一种无机碱。

〈6〉根据〈1〉至〈5〉中的任一项所述的防带电性剥离剂，其中，上述分散介质是由甲醇、乙醇、异丁醇及二甲基亚砜组成的组合中选出的至少一种化合物与水的混合物。

发明效果

本发明的防带电性剥离剂是具有良好储存稳定性的剥离剂。

本发明的防带电性剥离涂膜和防带电性剥离基材具有良好的防带电性和剥离性。

附图说明

图1是示出本发明的防带电性剥离基材的一个例子的截面图。

具体实施方式

下面，对本发明进行详细的说明。