[发明专利]一种多规格挡圈加工工艺有效

专利信息
申请号: 201310449688.7 申请日: 2013-09-28
公开(公告)号: CN103481036A 公开(公告)日: 2014-01-01
发明(设计)人: 汪金良;殷克贵;高晓成;蒋春权 申请(专利权)人: 安徽省宁国市东波紧固件有限公司
主分类号: B23P15/00 分类号: B23P15/00
代理公司: 合肥市长远专利代理事务所(普通合伙) 34119 代理人: 刘勇;杨静
地址: 242300 安徽省宣城*** 国省代码: 安徽;34
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摘要:
搜索关键词: 一种 规格 加工 工艺
【说明书】:

技术领域

发明涉及挡圈加工技术领域,尤其涉及一种多规格挡圈加工工艺。

背景技术

挡圈是常用的机械零件,它有规范的设计标准,其主要作用是紧固在轴上的圈形机件,可以防止装在轴上的其他零件窜动,属于一种紧固件。国标中,不用规格的挡圈的厚度要求随规格的增大而阶段性的增大,在实际生产中,按照国标生产挡圈时,冲压后的边料、芯子料都只能作为废料处理,造成资源浪费,加工成本非常大。

发明内容

为了解决背景技术中存在的技术问题,本发明提出了一种多规格挡圈加工工艺,实现了多种规格孔用挡圈或轴用挡圈的生产,其制造工艺简单,材料利用率高,减少了资源浪费。

本发明提出的一种多规格挡圈的加工工艺,用于生产加工不同规格的孔用挡圈或轴用挡圈,包括以下步骤:

S1、对预制厚度的金属板材进行冲裁处理,得到第一规格挡圈基体和第一余料;

S2、将步骤S1中得到的第一余料轧制至第二规格挡圈厚度;

S3、将步骤S2中轧制后的第一余料进行冲裁处理,得到第二规格挡圈基体和第二余料。

优选地,在步骤S3之后还包括以下步骤:

S4、将步骤S3中得到的第二余料轧制至第三规格挡圈厚度;

S5、将步骤S4中轧制后的第二余料进行冲裁处理,得到第三规格挡圈基体和第三余料。

优选地,在步骤S5之后还包括以下步骤:

S6、将步骤S5中得到的第三余料轧制至第四规格挡圈厚度;

S7、将步骤S6中轧制后的第三余料进行冲裁处理,得到第四规格挡圈基体和第四余料。

优选地,在步骤S7之后还包括以下步骤:

S8、将步骤S7中得到的第四余料轧制至第五规格挡圈厚度;

S9、将步骤S8中轧制后的第四余料进行冲裁处理,得到第五规格挡圈基体和第五余料。

优选地,第一余料、第二余料、第三余料、第四余料和第五余料均包括边料和芯子料。

优选地,轧制处理采用辊轧机进行轧制。

本发明中,根据国标中不同规格的挡圈的厚度要求随规格的增大而阶段性的增大这一特点,将冲裁制备大规格挡圈的余料轧制至小规格挡圈的厚度,从而使用大规格挡圈生产后的余料作为小规格挡圈生产的原料,以此类推,可以在生产多种规格的挡圈过程中,对材料进行多次利用,减少最终作为废料的余料数量;因此,可以大大提高材料的利用率,大幅度减少了材料的浪费,并降低了生产成本。

附图说明

图1为本发明提出的一种多规格挡圈的加工工艺的流程示意图。

具体实施方式

如图1所示,图1为本发明提出的一种多规格挡圈的加工工艺的流程示意图。

参照图1,本发明提出的一种多规格挡圈的加工工艺,用于生产加工不同规格的孔用挡圈或轴用挡圈,包括以下步骤:

S1、对预制厚度的金属板材进行冲裁处理,得到第一规格挡圈基体和第一余料;

S2、将步骤S1中得到的第一余料轧制至第二规格挡圈厚度;

S3、将步骤S2中轧制后的第一余料进行冲裁处理,得到第二规格挡圈基体和第二余料;

S4、将步骤S3中得到的第二余料轧制至第三规格挡圈厚度;

S5、将步骤S4中轧制后的第二余料进行冲裁处理,得到第三规格挡圈基体和第三余料;

S6、将步骤S5中得到的第三余料轧制至第四规格挡圈厚度;

S7、将步骤S6中轧制后的第三余料进行冲裁处理,得到第四规格挡圈基体和第四余料;

S8、将步骤S7中得到的第四余料轧制至第五规格挡圈厚度;

S9、将步骤S8中轧制后的第四余料进行冲裁处理,得到第五规格挡圈基体和第五余料。

在本实施例中,第一余料、第二余料、第三余料、第四余料和第五余料均包括边料和芯子料,轧制处理采用辊轧机进行轧制,从而可以充分利用边料和芯子料,同时,采用辊轧机进行轧制,轧制厚度易于控制,工艺简单。

在本发明中,根据国标中不同规格的挡圈的厚度要求随规格的增大而阶段性的增大这一特点,将冲裁制备大规格挡圈的余料轧制至小规格挡圈的厚度,从而使用大规格挡圈生产后的余料作为小规格挡圈生产的原料,以此类推,可以在生产多种规格的挡圈过程中,对材料进行多次利用,减少最终作为废料的余料数量;因此,可以大大提高材料的利用率,大幅度减少了材料的浪费,并降低了生产成本。

以上所述,仅为本发明较佳的具体实施方式,但本发明的保护范围并不局限于此,任何熟悉本技术领域的技术人员在本发明揭露的技术范围内,根据本发明的技术方案及其发明构思加以等同替换或改变,都应涵盖在本发明的保护范围之内。

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