[发明专利]干法刻蚀设备及刻蚀方法有效
| 申请号： | 201310450519.5 | 申请日： | 2013-09-27 |
| 公开（公告）号： | CN103474322A | 公开（公告）日： | 2013-12-25 |
| 发明（设计）人： | 赵超超;徐跃鸿;石建东 | 申请（专利权）人： | 广东尚能光电技术有限公司 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32;G02B6/136 |
| 代理公司： | 深圳市瑞方达知识产权事务所(普通合伙) 44314 | 代理人： | 张约宗;张秋红 |
| 地址： | 528251 广东省*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 刻蚀 设备 方法 | ||
1.一种干法刻蚀设备，包括用于放置至少一个被刻蚀件（3）的托盘（1）、用于对所述至少一个被刻蚀件（3）进行刻蚀的刻蚀单元、收容所述托盘（1）的壳体以及与所述壳体相连接的真空发生器，其特征在于，所述托盘（1）上安装有至少一组用于限定所述至少一个被刻蚀件（3）的限位销（2）。
2.根据权利要求1所述的干法刻蚀设备，其特征在于，所述至少一组限位销（2）可拆卸地安装于所述托盘（1）表面上。
3.根据权利要求2所述的干法刻蚀设备，其特征在于，所述托盘（1）表面设置有用于分别供所述至少一组限位销（2）插置的多个限位孔（11）。
4.根据权利要求1所述的干法刻蚀设备，其特征在于，所述至少一组限位销（2）垂直设置于所述托盘（1）表面。
5.根据权利要求1所述的干法刻蚀设备，其特征在于，所述至少一组限位销（2）包括多组限位销（2），每一组限位销（2）包括至少三个间隔布置的限位销（2）。
6.根据权利要求5所述的干法刻蚀设备，其特征在于，该多组限位销（2）中的部分相邻组限位销（2）共用一个或一个以上的限位销（2）。
7.根据权利要求1所述的干法刻蚀设备，其特征在于，所述托盘（1）为石墨托盘。
8.根据权利要求1至7中任一项所述的干法刻蚀设备，其特征在于，所述干法刻蚀设备为晶圆用干法刻蚀设备，所述被刻蚀件（3）为晶圆。
9.一种干法刻蚀方法，其特征在于，包括以下步骤：
A、提供一个托盘（1）；
B、在所述托盘（1）表面安装用以限定至少一个被刻蚀件（3）的至少一组限位销（2）；
C、将所述至少一个被刻蚀件（3）放置于所述托盘（1）表面，并位于至少一组限位销（2）之间，由所述至少一组限位销（2）限位于所述托盘（1）表面上；
D、将所述托盘（1）放置于连接有真空发生器的壳体内，打开所述真空发生器，通过刻蚀单元由上往下对所述至少一个被刻蚀件（3）进行干法蚀刻。
10.根据权利要求9所述的干法刻蚀设备，其特征在于，所述托盘（1）为石墨托盘，所述至少一个被刻蚀件（3）为晶圆。
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