[发明专利]清洁装置及直线涂布机

说明书

技术领域

本发明涉及到显示装置生产设备的技术领域，尤其涉及到一种清洁装置及包括该清洁装置的直线涂布机。

背景技术

光刻胶涂布是光刻工艺（Photolithograph）的重要环节，对涂布设备的精确度要求很高，直线涂布机机台的平整度直接影响到光刻胶的涂布效果。如果机台上存在杂质，基板在放置在机台上时会有凸起，造成基板表面不平整，在涂布时会造成涂布不均匀，产品出现各种缺陷和不良，杂质较大时甚至导致涂布中断、玻璃破碎以及涂布装置损坏，严重影响了产品良率和设备稳定性。

目前设备没有清洁直线涂布机机台的装置，只有在发现产品缺陷或者报警后进行停机作业，人工进入设备里手动用无尘布或者粘尘滚轴清理直线涂布机机台。采用上述清洁工具不但清洁效果有限，而且工作效率比较低。

发明内容

本发明提供了一种清洁装置及直线涂布机，用以提高直线涂布机的清洁度，进而提高基板的涂布效果。

本发明提供了一种清洁装置，该清洁装置包括：

真空吸气装置，所述真空吸气装置具有多个朝向待清洁物体表面的第一吸气口；

与所述真空吸气装置转动连接并可滚动的至少一个粘性滚轴，所述粘性滚轴用于粘附待清洁物体表面的杂质。

在上述技术方案中，通过真空吸气装置吸走待清洁物体表面的细小颗粒，通过粘性滚轴粘走颗粒比较大的颗粒，从而提高了物体表面的清洁度。将所述清洁装置应用于直线涂布机，可以提稿直线涂布机机台的清洁度，进而提高了基板涂布的效果。

优选的，所述真空吸气装置具有容纳所述粘性滚轴的凹陷槽，且所述凹陷槽位于相邻的两个第一吸气口之间，所述粘性滚轴设置于所述凹陷槽内并部分露出，以接触待清洁物体表面。通过将粘性滚轴设置于真空吸气装置中的容纳槽，有效的降低了清洁装置的体积，同时，粘性滚轴位于两个吸气口之间，避免了粘性滚轴粘连颗粒比较小的颗粒，提高了粘性滚轴的工作效率。

优选的，所述凹陷槽的槽壁上设置有滚轴刷，所述滚轴刷下方的凹陷槽的槽壁上设有容纳所述滚轴刷刷下的杂质的容纳槽，且所述容纳槽内设置有吸附杂质的第二吸气口。通过滚轴刷将粘连在粘性滚轴上的杂质除去，从而保证了粘性滚轴能够与直线涂布机机台充分的接触，提高了粘性滚轴的工作效率。

优选的，所述凹陷槽的槽壁上设置有多个吸附所述滚轴刷刷落的杂质的吸气孔。通过吸气孔将滚轴刷刷下的比较细小的颗粒吸走，防止其掉落到直线涂布机机台上，提高了清洁装置的清洁效果。

优选的，所述清洁装置还包括设置于所述真空吸气装置壳体并用于打磨待清洁物体表面上的杂质的至少一个打磨部件。通过打磨部件打磨粘连在直线涂布机机台上的杂质，进一步提高了清洁装置的清洁效果。

优选的，所述打磨部件通过弹簧或弹性橡胶与所述真空吸气装置弹性连接。通过弹簧或者弹性橡胶将打磨部件和真空吸气装置弹性连接，保证了打磨部件与直线涂布机机台的充分接触，并有一定的接触压力，便于打磨部件打磨杂质。

优选的，所述打磨部件的个数为一个，所述粘性滚轴的个数为两个，且所述打磨部件位于两个粘性滚轴之间。通过粘性滚轴将打磨部件打磨下来的杂质粘连走，提高了清洁装置的清洁效果。

优选的，所述打磨部件的个数为一个，所述打磨部件位于相邻的两个第一吸气口之间。通过第一吸气口将打磨部件打磨下来的细小颗粒吸走，提高了清洁装置的清洁效果。

本发明还提供了一种直线涂布机，包括：具有第一滑轨的直线涂布机机台；滑动装配于所述第一滑轨的涂布装置；与所述涂布装置转动连接并可锁定于设定位置的上述任一种清洁装置；以及驱动所述涂布装置在所述第一滑轨滑动的第一驱动装置。

在上述技术方案中，直线涂布机通过采用清洁装置清洁直线涂布机机台，提高了直线涂布机机台的清洁度，进而提高了基板的涂布效果。

本发明还提供了一种直线涂布机，包括：具有第一滑轨和第二滑轨的直线涂布机机台；滑动装配于所述第一滑轨的涂布装置；驱动所述涂布装置在所述第一滑轨上滑动的第一驱动装置；以及滑动装配于所述第二滑轨的上述任一种清洁装置。

在上述技术方案中，直线涂布机通过采用清洁装置清洁直线涂布机机台，提高了直线涂布机机台的清洁度，进而提高了基板的涂布效果。

优选的，所述清洁装置通过支撑架滑动装配于所述第二滑轨，且所述清洁装置滑动装配于所述支撑架。避免清洁装置影响到涂布装置的涂布。