[发明专利]具有标记的印版前体以及由该前体制备印版的方法在审

专利信息
申请号: 201310459332.1 申请日: 2013-09-25
公开(公告)号: CN103692764A 公开(公告)日: 2014-04-02
发明(设计)人: R·布洛姆奎斯特;V·朗古;A·朗古;R·萨布拉马尼安 申请(专利权)人: E.I.内穆尔杜邦公司
主分类号: B41C1/10 分类号: B41C1/10;G03F7/09
代理公司: 上海专利商标事务所有限公司 31100 代理人: 朱黎明
地址: 美国特*** 国省代码: 美国;US
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摘要:
搜索关键词: 具有 标记 印版前体 以及 体制 备印版 方法
【权利要求书】:

1.印版前体,包括:

a)支撑件;和

b)包含粘合剂、单体和光引发剂的可光致聚合材料层,所述可光致聚合材料层邻近所述支撑件并对光化辐射敏感;

其中文本或图形的至少一个标记设置在所述支撑件和所述可光致聚合层之间。

2.根据权利要求1所述的前体,其中所述至少一个标记对选自紫外辐射的光化辐射透明,并且所述至少一个标记用透射所述紫外辐射的至少1%的墨生成。

3.根据权利要求1所述的前体,其中所述光化辐射为介于约300和390nm之间的紫外辐射,并且所述至少一个标记用透射所述光化辐射的至少10%的蓝色墨生成。

4.根据权利要求1所述的印版前体,其中所述至少一个标记对光化辐射充分透明,使得通过所述支撑件曝光于光化辐射形成所述可光致聚合层的固化部分的基层。

5.制备凸版印版的方法,包括:

a)提供印版前体,所述印版前体包括支撑件以及包含粘合剂、单体和光引发剂的可光致聚合材料层,所述可光致聚合材料层邻近所述支撑件并且对光化辐射敏感,其中文本或图形的至少一个标记设置在所述支撑件和所述可光致聚合层之间;

b)将所述前体通过所述支撑件全面曝光于光化辐射以形成基层;

c)将所述可光致聚合层成像式曝光于光化辐射,从而生成所述可光致聚合层的曝光部分和未曝光部分;以及

d)处理以移除所述可光致聚合层的未曝光部分并且形成适于印刷的凸版表面;

其中所述标记在整个步骤b)至d)的过程中存在。

6.根据权利要求5所述的方法,其中所述光化辐射为紫外辐射,并且所述至少一个标记透射所述紫外辐射的至少10%。

7.根据权利要求5所述的方法,其中所述标记具有与所述可光致聚合层充分对比从而可见的颜色。

8.制备印版前体的方法,包括:

a)将文本或图形的至少一个标记施加到支撑件的第一表面;

b)施加可光致聚合材料以形成介于所述支撑件的第一表面和覆盖片之间的层,使得所述至少一个标记设置在所述支撑件和所述可光致聚合层之间并形成可光致聚合印版前体。

9.根据权利要求8所述的方法,其中所述施加步骤选自凸版印刷、凹版印刷、平版印刷或喷墨。

10.根据权利要求8所述的方法,其中施加所述至少一个标记的步骤与施加所述可光致聚合材料的步骤分开进行或同时进行。

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