[发明专利]片材输送装置有效
申请号: | 201310460404.4 | 申请日: | 2013-09-30 |
公开(公告)号: | CN103848240B | 公开(公告)日: | 2016-11-23 |
发明(设计)人: | 小崎大介 | 申请(专利权)人: | 兄弟工业株式会社 |
主分类号: | B65H3/46 | 分类号: | B65H3/46;B65H3/66;B65H29/20;B65H37/00 |
代理公司: | 上海市华诚律师事务所 31210 | 代理人: | 梅高强;刘煜 |
地址: | 日本国爱知县名*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 输送 装置 | ||
技术领域
本发明涉及一种片材输送装置。
背景技术
专利文献1中公开了以往的片材输送装置的例子。该片材输送装置具有:在片材上进行处理的处理部;片材堆叠部分,所述片材堆叠部分堆叠通过处理部进行处理后的片材;以及输送单元,所述输送单元将片材引导至处理部,进一步沿着将片材向片材堆叠部分引导的输送路径输送。输送单元具有排出辊。排出辊将沿着输送路径输送的片材输送向片材堆叠部分。另外,该片材输送装置具有第一引导表面。第一引导表面设于输送路径中的排出辊的下游侧。第一引导表面一边接触被输送的片材一边将其引导向片材堆叠部分。
现有技术文献
专利文献
专利文献1:日本专利4941493号公报
发明所要解决的课题
然而,上述以往的片材输送装置中,存在下述担忧:通过片材的输送而产生的静电从片材移动至第一引导表面,积累于第一引导表面、装置内部。该情况下,该片材输送装置中,存在下述担忧:由于静电灰尘等被吸引从而使处理部的处理质量下降,或者输送至片材堆叠部分的片材与之前输送至片材堆叠部分的片材由于静电互相附着,产生片材的堆叠不良。
发明内容
本发明鉴于上述以往的情况而做出的,目的是提供一种片材输送装置,能够抑制由静电引起的处理部的处理质量的下降以及片材堆叠部分中的片材的堆叠不良。
解决课题的手段
本发明的片材输送装置包括:
输送单元,所述输送单元被构造成沿着输送路径在输送方向上输送片材,所述输送单元包括排出辊;和
片材堆叠部分,所述片材堆叠部分被构造成接收由所述输送单元输送的所述片材,所述排出辊被构造成将所述片材排出到所述片材堆叠部分;
第一引导表面,所述第一引导表面布置在所述输送路径中,并且在所述输送方向上位于所述排出辊的下游,所述第一引导表面被构造成将所述片材引导到所述片材堆叠部分;和
传导构件,所述传导构件包括:
接触部分,所述接触部分沿着所述输送路径邻近所述第一引导表面,并且被构造成与所述输送单元输送的所述片材接触;和
放电部分,所述放电部分被构造成释放静电,所述静电通过所述片材和所述接触部分的接触被转移到所述接触部分。
本发明的片材输送装置具有传导构件,该传导构件具有接触部分和放电部分。接触部分在第一引导表面的中途露出,与被输送的片材接触。放电部分对由于接触部分与片材的接触而移动至接触部分的静电进行放电。这样,该片材输送装置中由片材的输送引起的静电不易积累于第一引导表面、装置内部。其结果,在该片材输送装置中,能够抑制下述不良情况:由于静电灰尘等被吸引至处理部,或者输送至片材堆叠部分的片材与之前输送至片材堆叠部分的片材由于静电而互相附着。
因此,在本发明的片材输送装置中,能够抑制由静电引起的处理部的处理质量的下降以及片材堆叠部分中的片材的堆叠不良。
本发明的片材输送装置最好进一步包括:第二引导表面,所述第二引导表面沿着所述输送路径布置,并且在所述输送方向上位于所述接触部分的上游,并且,所述第二引导表面面对所述第一引导表面,以限定所述输送路径的一部分。并且,所述第二引导表面最好被构造成朝着所述接触部分引导由所述输送单元输送的所述片材,并且在接触由所述输送单元输送的所述片材的同时朝着所述片材堆叠部分引导所述片材。根据该结构,通过第二引导表面,能够将被输送的片材准确地向传导构件的接触部分输送,能够使片材可靠地与接触部分接触。
所述第二引导表面最好包括:第一形状部分,所述第一形状部分从所述排出辊在所述输送方向上的下游位置在从所述第一引导表面退离的方向上延伸;和第二形状部分,所述第二形状部分布置在所述第一形状部分在所述输送方向上的下游,并且在接近所述第一引导表面的方向上延伸。并且所述接触部分最好布置在假想线上,所述假想线从所述第二形状部分的下游端延伸。根据该结构,通过第一形状部分以及第二形状部分,能够将被输送的片材更准确地向传导构件的接触部分输送,能够使片材更可靠地与接触部分接触。
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