[发明专利]一种抗菌防水耐日晒涤纶装饰面料有效

专利信息
申请号: 201310461259.1 申请日: 2013-10-08
公开(公告)号: CN103498330A 公开(公告)日: 2014-01-08
发明(设计)人: 何勇;丁亚青;李久彬 申请(专利权)人: 南通田园纺织科技有限公司
主分类号: D06M11/38 分类号: D06M11/38;D06M11/46;D06P3/52;D06P1/00;D06P1/62;D06P1/613;D06P1/52;D06M101/32
代理公司: 北京一格知识产权代理事务所(普通合伙) 11316 代理人: 滑春生
地址: 226500 江苏省南*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 一种 抗菌 防水 日晒 涤纶 装饰 面料
【说明书】:

技术领域

发明涉及一种涤纶装饰面料,具体涉及一种抗菌防水耐日晒涤纶装饰面料,属于纺织技术领域。

背景技术

装饰面料按材质分类,有全棉、涤棉、全涤、毛涤、全毛等几种。涤纶是世界产量最大,应用最广泛的合成纤维品种,涤纶占世界合成纤维产量的60%以上。大量用于衣料、床上用品、各种装饰布料、国防军工特殊织物等纺织品以及其他工业用纤维制品。

涤纶具有强力大、初始模量高、耐磨、耐腐蚀、耐气候性好。涤纶丝价格便宜, 做成装饰面料易洗快干、尺寸稳定性好、经久耐用, 能满足人们对装饰面料的更高要求。

发明内容

本发明的目的在于针对现有技术中的不足,提供一种抗菌防水耐日晒的高性能涤纶装饰面料。

为解决上述技术问题,本发明采用如下技术方案实现:

一种抗菌防水耐日晒涤纶装饰面料,其特征在于:采用纳米银改性涤纶纤维织造形成坯布,然后进行漂白、碱解处理、染色和后整理得到成品,具体步骤如下:

(1)漂白:待处理的坯布置于池内,依次加入2.5g/l 的次氯酸钠和2.8g/l 的双氧水,在92℃下保温25min;

(2)碱解处理:将涤纶织物在4-10g/L氢氧化钠溶液中,浴比1:40的处理液中85-90℃下处理20-30分钟,清水洗净;

(3)染色:上述处理后的坯布同时进行染色和防紫外线整理,选用Dianix AM specialities染料,pH 值为6.5,依次加入1-3 wt% 分散剂、0.5-2 wt% 的匀染剂、0.5-2 wt% 抗泳移剂、2-4 wt% 防紫外剂,浸轧染液,轧余量为45-50%,170-180℃热风烘干,坯布冷却至30-40℃;

(4)后整理:染色后的坯布置入浸渍槽内,向浸渍槽内加入有机氟整理剂15-40g/L,硅烷偶联剂2-4g/L,纳米粉体5-10g/L,2-3g/l 的柔软剂、18-22g/l 的防水剂,浸轧整理液,轧余率为70-80%℃预烘干,90-100℃热定型。

进一步的,所述步骤(3)中分散剂为亚甲基双荼磺酸钠,匀染剂为脂肪醇聚氧乙烯醚,防泳移剂为丙烯酸类共聚物,防紫外线剂为带有活性基团的苯并三氮唑衍生物。

进一步的,所述步骤(4)中的纳米粉体为纳米二氧化钛。

本发明的有益效果:本发明制备的涤纶织物采用纳米银改性纤维为原料,经过碱解处理,使纤维表面粗糙化,采用Dianix AM specialities染料染色,染色过程中加入防水剂、防紫外剂,最后通过后整理,将纳米二氧化钛粉体施加到织物上,赋予涤纶织物拒水、抗菌和耐日晒的优良性能。

具体实施方式

下面结合具体实施例对本发明的技术方案作详细说明。

一种抗菌防水耐日晒涤纶装饰面料,其特征在于:采用纳米银改性涤纶纤维织造形成坯布,然后进行漂白、碱解处理、染色和后整理得到成品,具体步骤如下:

(1)漂白:待处理的坯布置于池内,依次加入2.5g/l 的次氯酸钠和2.8g/l 的双氧水,在92℃下保温25min;

(2)碱解处理:将涤纶织物在4-10g/L氢氧化钠溶液中,浴比1:40的处理液中85-90℃下处理20-30分钟,清水洗净;

(3)染色:上述处理后的坯布同时进行染色和防紫外线整理,选用Dianix AM specialities染料,pH 值为6.5,依次加入1-3 wt% 分散剂亚甲基双荼磺酸钠、0.5-2 wt% 的匀染剂脂肪醇聚氧乙烯醚、0.5-2 wt% 抗泳移剂丙烯酸类共聚物、2-4 wt% 防紫外剂带有活性基团的苯并三氮唑衍生物,浸轧染液,轧余量为45-50%,170-180℃热风烘干,坯布冷却至30-40℃;

(4)后整理:染色后的坯布置入浸渍槽内,向浸渍槽内加入有机氟整理剂15-40g/L,硅烷偶联剂2-4g/L,纳米粉体5-10g/L,2-3g/l 的柔软剂、18-22g/l 的防水剂,浸轧整理液,轧余率为70-80%℃预烘干,90-100℃热定型。

上述实施例仅用以说明本发明的技术方案,而非对本发明的构思和保护范围进行限定,本发明的普通技术人员对本发明的技术方案进行修改或者等同替换,而不脱离技术方案的宗旨和范围,其均应涵盖在本发明的权利要求范围中。

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