[发明专利]晶片叠层体、器件晶片及承载晶片的粘合及剥离处理方法无效

专利信息
申请号: 201310462164.1 申请日: 2013-09-30
公开(公告)号: CN103715126A 公开(公告)日: 2014-04-09
发明(设计)人: 蔡成芫;徐荣得;安兴基;太景燮;金光武 申请(专利权)人: 怡诺士有限公司
主分类号: H01L21/683 分类号: H01L21/683;H01L21/02
代理公司: 北京品源专利代理有限公司 11332 代理人: 杨生平;钟锦舜
地址: 韩国忠*** 国省代码: 韩国;KR
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 晶片 叠层体 器件 承载 粘合 剥离 处理 方法
【权利要求书】:

1.一种叠层体,其特征在于,包括:

器件晶片;

保护层,其形成于上述器件晶片的一面;

承载晶片,其用于支撑上述器件晶片;

填充层,其形成于上述承载晶片的一面;以及

光分解层,其形成于上述填充层上的一部分,与上述保护层相接触,来使器件晶片与承载晶片临时接合。

2.一种叠层体,其特征在于,包括:

器件晶片;

承载晶片,其用于支撑上述器件晶片;

保护层,其形成于上述承载晶片的一面;

填充层,其形成于上述器件晶片的一面;以及

光分解层,其形成于上述填充层上的一部分,与上述保护层相接触,来使器件晶片与承载晶片临时接合。

3.根据权利要求1或2所述的叠层体,其特征在于,上述光分解层形成于上述填充层上的边缘部分。

4.根据权利要求3所述的叠层体,其特征在于,上述光分解层以5mm以下的宽度形成于上述填充层上的边缘部分。

5.根据权利要求1或2所述的叠层体,其特征在于,上述保护层包含固化型硅酮树脂。

6.根据权利要求1或2所述的叠层体,其特征在于,上述填充层包含氨基甲酸乙酯丙烯酸类树脂。

7.根据权利要求1或2所述的叠层体,其特征在于,上述填充层通过涂敷用光聚合性单体稀释的氨基甲酸乙酯丙烯酸酯低聚物而成。

8.根据权利要求1或2所述的叠层体,其特征在于,上述填充层包含0.05~15重量%的光聚合引发剂。

9.根据权利要求1或2所述的叠层体,其特征在于,上述光分解层由包含吸光剂、分散溶剂以及粘结剂树脂的物质形成,并具有50~500gf/inch的粘合力。

10.根据权利要求9所述的叠层体,其特征在于,上述吸光剂包含碳黑、碳纳米管以及黑铅纳米粉末中的一种以上。

11.根据权利要求9所述的叠层体,其特征在于,上述分散溶剂包含甲基乙基甲酮、甲基异丁基甲酮、甲醇、乙醇、异丙醇、甲苯以及环己酮中的一种以上。

12.根据权利要求9所述的叠层体,其特征在于,上述粘结剂树脂包含丙烯酸类树脂、环氧类树脂以及聚氨基甲酸乙酯类树脂中的一种以上。

13.根据权利要求1或2所述的叠层体,其特征在于,上述器件晶片由包含硅的物质形成。

14.根据权利要求1或2所述的叠层体,其特征在于,上述承载晶片由包含玻璃以及丙烯酸类材料中的一种以上的物质形成。

15.一种叠层体的粘合及剥离处理方法,其特征在于,包括以下步骤:

步骤(a),在器件晶片的一面形成保护层;

步骤(b),在承载晶片的一面形成填充层;

步骤(c),在上述填充层上的一部分形成光分解层;

步骤(d),接合上述保护层和上述光分解层,来使上述器件晶片和上述承载晶片临时接合;以及

步骤(e),向上述光分解层照射激光,来使上述器件晶片和上述承载晶片分离。

16.一种叠层体的粘合及剥离处理方法,其特征在于,包括以下步骤:

步骤(a),在承载晶片的一面形成保护层;

步骤(b),在器件晶片的一面形成填充层;

步骤(c),在上述填充层上的一部分形成光分解层;

步骤(d),接合上述保护层和上述光分解层,来使上述器件晶片和上述承载晶片临时接合;

步骤(e),向上述光分解层照射激光,来使上述器件晶片和上述承载晶片分离。

17.根据权利要求15或16所述的叠层体的粘合及剥离处理方法,其特征在于,在上述步骤(c)中,在上述填充层上的边缘部分形成光分解层。

18.根据权利要求15所述的叠层体的粘合及剥离处理方法,其特征在于,在上述步骤(e)中,向上述承载晶片上的边缘部分照射激光,来向上述光分解层照射激光。

19.根据权利要求16所述的叠层体的粘合及剥离处理方法,其特征在于,在上述步骤(e)中,向上述器件晶片上的边缘部分照射激光,来向上述光分解层照射激光。

20.根据权利要求15或16所述的叠层体的粘合及剥离处理方法,其特征在于,在上述步骤(e)中,向上述光分解层照射上述激光,并将插入体插入在上述光分解层和上述保护层之间之后,分离上述器件晶片和上述承载晶片。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于怡诺士有限公司,未经怡诺士有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201310462164.1/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top