[发明专利]旋转角检测设备有效

专利信息
申请号: 201310463621.9 申请日: 2013-10-08
公开(公告)号: CN103727873B 公开(公告)日: 2018-01-30
发明(设计)人: 本多仁美;水谷彰利;河野祯之 申请(专利权)人: 株式会社电装
主分类号: G01B7/30 分类号: G01B7/30
代理公司: 永新专利商标代理有限公司72002 代理人: 陈松涛,王英
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 旋转 检测 设备
【权利要求书】:

1.一种用于检测旋转体(3)的旋转角的旋转角检测设备,所述旋转体(3)相对于支撑体(2、2A)围绕所述旋转体(3)的旋转轴中心(R)旋转,所述旋转角检测设备包括:

第一磁体(20),其与所述旋转体的所述旋转轴中心(R)间隔开,并且在与虚圆正切的方向上被磁化,所述虚圆与所述旋转轴中心同轴;

第二磁体(30),其被定位为相对于所述旋转轴中心与所述第一磁体相对,并且在与所述第一磁体相同的方向上被磁化;

第一磁轭(40、71),其被固定到所述旋转体并且连接所述第一磁体的N极和所述第二磁体的N极;

第二磁轭(50、73),其被固定到所述旋转体以相对于所述旋转轴中心与所述第一磁轭相对,所述第二磁轭连接所述第一磁体的S极和所述第二磁体的S极;

磁性检测元件(61),其被定位在所述旋转轴中心上并且被固定到所述支撑体,所述磁性检测元件输出电信号,所述电信号随着由所述旋转体与所述支撑体之间的相对旋转生成的磁场的变化而改变,

其中,所述第一磁体(20)和所述第二磁体(30)被定位为在经由所述旋转轴中心的第一方向(D1)上相互面对,并且所述第一磁轭(40、71)和所述第二磁轭(50、73)被定位为在第二方向(D2)上相互面对,所述第二方向(D2)与所述第一方向正交,

其中,所述第一磁轭(40、71)具有内表面,所述内表面面对所述第二磁轭并且具有第一凹曲表面(41)、第二凹曲表面(42)和第一连接表面(43、72),

所述第一凹曲表面(41)在不同于所述第二方向的方向上从所述第一磁体的所述N极延伸,使得所述第一凹曲表面从所述第一磁体越接近所述第二磁体就越远离所述第二磁轭,

所述第二凹曲表面(42)在不同于所述第二方向的方向上从所述第二磁体的所述N极延伸,使得所述第二凹曲表面从所述第二磁体越接近所述第一磁体就越远离所述第二磁轭,并且

所述第一连接表面(43、72)连接所述第一凹曲表面和所述第二凹曲表面,并且具有在所述第一方向上延伸的平面(43)或向着所述旋转轴中心突出的凸曲表面(72),并且

其中,所述第二磁轭(50、73)具有内表面,所述内表面面对所述第一磁轭并且具有第三凹曲表面(51)、第四凹曲表面(52)和第二连接表面(53、74),

所述第三凹曲表面(51)在不同于所述第二方向的方向上从所述第一磁体的所述S极延伸,使得所述第三凹曲表面从所述第一磁体越接近所述第二磁体就越远离所述第一磁轭,

所述第四凹曲表面(52)在不同于所述第二方向的方向上从所述第二磁体的所述S极延伸,使得所述第四凹曲表面从所述第二磁体越接近所述第一磁体就越远离所述第一磁轭,并且

所述第二连接表面(53、74)连接所述第三凹曲表面和所述第四凹曲表面,并且具有在所述第一方向上延伸的平面(53)或向着所述旋转轴中心突出的凸曲表面(74),

其中:

所述第一凹曲表面(41)和所述第二凹曲表面(42)具有相对于所述旋转轴中心在第二磁轭侧的曲率半径中心(C1);并且

所述第三凹曲表面(51)和所述第四凹曲表面(52)具有相对于所述旋转轴中心在第一磁轭侧的曲率半径中心(C2),

其中:

所述第一磁轭(40、71)和所述第二磁轭(50、73)被成形为相对于虚拟平面(S1)成平面对称,所述虚拟平面(S1)穿过所述旋转轴中心并且在所述第二方向上延伸,

其中:

所述第一磁轭(40、71)和所述第二磁轭(50、73)被成形为相对于虚拟平面(S2)成平面对称,所述虚拟平面(S2)穿过所述旋转轴中心并且在所述第一方向上延伸。

2.根据权利要求1所述的旋转角检测设备,其中:

所述第一连接表面(72)和所述第二连接表面(74)是向着所述旋转轴突出的凸曲表面。

3.根据权利要求1或2所述的旋转角检测设备,其中:

所述第一凹曲表面(41)和所述第二凹曲表面(42)的曲率半径中心(C1)在所述第二磁轭(50)与所述旋转轴中心(R)之间;并且

所述第三凹曲表面(51)和所述第四凹曲表面(52)的曲率半径中心(C2)在所述第一磁轭(40)与所述旋转轴中心(R)之间。

4.根据权利要求1或2所述的旋转角检测设备,其中:

所述第一磁体(20)和所述第二磁体(30)在所述第一方向上相对地与所述旋转轴中心间隔开相同的距离(X1、X2)。

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