[发明专利]一种反射性阳光控制低辐射镀膜玻璃及其制备方法

权利要求书

1.一种反射性阳光控制低辐射镀膜玻璃，其特征在于有依次镀在普通浮法玻璃基片上的掺碳氧化硅层、掺锑氧化锡层、掺氟氧化锡层、掺磷氧化钛层；其中，掺碳氧化硅层的厚度在50~100nm之间，折射率在1.5~1.8之间；掺锑氧化锡层的厚度在85~160nm之间，膜层中锑和锡的摩尔比是0.05~0.15；掺氟的氧化锡层的厚度在330-350之间；掺磷氧化钛层的厚度在20~40nm之间。

2.根据权利要求1所述的一种反射性阳光控制低辐射镀膜玻璃，其特征在于所述的反射性阳光控制低辐射镀膜玻璃具有：可见光反射率Rvis在10﹪~28%之间 ,可见光透过率Tvis≥45%，太阳得热系数SHGC≤0.5,辐射率E≤0.20，雾度≤1.5%。

3.根据权利要求1或2所述的一种反射性阳光控制低辐射镀膜玻璃，其特征在于掺锑的氧化锡层中锑：锡摩尔比为0.05~0.15之间。

4.  根据权利要求1或2或3所述的一种反射性阳光控制低辐射镀膜玻璃的制备方法是： 

 第一步，先镀制一层掺碳的氧化硅层作为颜色抑制层；具体是将硅烷、乙烯、二氧化碳以及载气氮气按体积比[1~10%]:[10~40%]:[10~40%]:[10~79%]形成混合气，将该混合气导入镀膜器的供料腔，并通过镀膜器下方的供料狭缝，喷镀到其下方的运动着的热玻璃表面，并以层流的方式流经玻璃表面，在玻璃表面发生化学反应，沉积而成膜；热玻璃温度是660～700℃，玻璃运行速度是100~500米/小时，得到该薄膜的折射率为1.5~1.8，厚度为50~100nm；

第二步，在第一步已沉积有掺碳氧化硅层的玻璃表面沉积掺锑的氧化锡层，具体是将单丁基三氯化锡（MBTC）、三氯化锑（SbCl₃）、H₂O、O₂、N₂形成的混合气体，直接通过供料狭缝喷镀到上述玻璃表面，并以层流方式流经玻璃表面，反应而得到掺锑氧化锡膜；其中MBTC占总反应气体浓度的0.5~2mol%、H₂O占总反应气体浓度的0.5~5mol%、SbCl₃占MBTC重量百分比的2~15%，O₂占总浓度的10~50mol%，其余为氮气，通过改变SbCl₃占MBTC的重量百分比来改变膜层中Sb的含量；该热玻璃板温度是640~680℃，运行速度100~500米/小时，得到膜层厚度在85~160nm之间；

第三步，在沉积前两层膜的玻璃表面沉积掺氟氧化锡层，方法与第二部相同，不同之处是用三氟乙酸（TFA）替代SbCl₃，TFA占MBTC的重量百分比为5~12%,玻璃板温度在600~650℃，运行速度100~500米/小时，制得掺氟氧化锡层，厚度是330~350nm；

第四步，在沉积前三层的玻璃表面沉积掺磷氧化钛层，具体是：将钛酸四异丙酯（TTIP）、亚磷酸三乙酯（TEP）分别加热至150-180℃蒸发，并用氮气携载，再与氧气形成混合气体，各成分占总混合气体的体积百分比为：TTIP：TEP：O₂=[0.1~1%]：[0.001~0.1%]：[0.1~5%]，其余为氮气；将该混合气体以层流方式导向并流经已经镀有掺杂氧化锡膜的热玻璃基片表面，发生化学反应沉积得到掺磷的氧化钛膜，热玻璃基片的温度是550~600℃，运行速度100~500米/小时，制得该膜层厚度20~40nm。

5.根据权利要求1或2、3所述的一种反射性阳光控制低辐射镀膜玻璃，其特征在于所述的单层掺碳的氧化硅膜层的厚度在50~100nm之间，折射率在1.5~1.8之间，使从膜层镀膜面测得的镀膜玻璃反射色为中性蓝灰，颜色坐标a*值为3~ -3，b*值为0~ -6。