[发明专利]窗口构件、其制造方法以及具有其的显示装置在审
申请号: | 201310467686.0 | 申请日: | 2013-10-09 |
公开(公告)号: | CN103915469A | 公开(公告)日: | 2014-07-09 |
发明(设计)人: | 王赞熙 | 申请(专利权)人: | 三星显示有限公司 |
主分类号: | H01L27/32 | 分类号: | H01L27/32;H01L51/52;H01L51/56;G02F1/13;G02F1/167;G02B26/02;G09F9/30 |
代理公司: | 北京铭硕知识产权代理有限公司 11286 | 代理人: | 王占杰;金玉兰 |
地址: | 韩国京畿*** | 国省代码: | 韩国;KR |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 窗口 构件 制造 方法 以及 具有 显示装置 | ||
本专利申请要求在2013年1月8日提交的第10-2013-0002172号韩国专利申请的优先权和权益,通过引用将该申请的全部内容包含于此。
技术领域
本公开涉及用于显示装置的窗口构件、制造该窗口构件的方法以及具有该窗口构件的显示装置。
背景技术
由于信息密集社会的快速发展,诸如有机发光显示面板、液晶显示面板、电泳显示面板和电润湿显示面板等的各种显示装置用于各种领域中。
显示装置通常包括显示面板、容纳显示面板的壳体和保护显示面板的暴露表面的窗口。
同时,窗口影响显示装置的外观,窗口通常包括光透射区域和围绕光透射区域的光阻挡区域,其中,在光透射区域中显示图像并将图像提供给观看者。在光阻挡区域中,在窗口的面对显示面板的表面上设置白色层或黑色层,因此光不通过光阻挡层透射。
由于光阻挡区域仅显示出白色或黑色,因此显示装置不给予观众美感。
发明内容
本公开提供了一种能够给予观看者美感或美观的用于显示装置的窗口构件、一种制造该窗口构件的方法以及一种具有该窗口构件的显示装置。
本发明构思的实施例提供了一种窗口构件,所述窗口构件包括:基础基板,具有光透射区域和围绕光透射区域的光阻挡区域;多个反射图案,位于光阻挡区域中的基础基板上并彼此分隔;以及光阻挡层,覆盖反射图案并构造为阻挡光。
每个反射图案可以包括具有彼此不同的折射率的多个层。
每个反射图案还可以包括:第一层,位于基础基板上并构造为透射光;以及第二层,位于第一层上,并具有与第一层的折射率不同的折射率。
第一层的折射率可以大于第二层的折射率。
第一层和第二层均可以具有在从大约1.3至大约2.4的范围内的折射率,第一层的折射率和第二层的折射率之间的差异可以等于或者大于大约0.1。
在每个反射图案中,第一层可以具有与第二层的厚度不同的厚度。
每个反射图案还可以包括位于第二层上的蚀刻停止层。
每个反射图案可以具有包括银、铝或铝合金的单层结构。
反射图案可以是反射具有彼此不同的色彩的光的彩色图案。
本发明构思的另一个实施例提供了一种制造窗口构件的方法,所述方法包括:在具有光透射区域和围绕光透射区域的光阻挡区域的基础基板上顺序地形成第一层和第二层,第一层和第二层具有彼此不同折射率;将第一层和第二层图案化,以在光阻挡区域中形成多个反射图案;以及形成覆盖反射图案并被构造为阻挡光的光阻挡层。
形成多个反射图案的步骤可以包括:在第二层上形成蚀刻停止层;将蚀刻停止层图案化,以在光阻挡区域中形成多个蚀刻停止层;以及对应于蚀刻停止层将第一层和第二层图案化。
第一层的折射率可以大于第二层的折射率。
第一层和第二层均可以具有在从大约1.3至大约2.4的范围内的折射率,第一层的折射率和第二层的折射率之间的差异可以等于或者大于大约0.1。
蚀刻停止层可以透射光。
本发明构思的再一个实施例提供了一种显示装置,所述显示装置包括:显示面板;以及窗口构件,具有光透射区域和围绕光透射区域的光阻挡区域。所述窗口构件包括:基础基板,具有光透射区域和围绕光透射区域的光阻挡区域;多个反射图案,形成在光阻挡区域中的基础基板的面对显示面板的表面上;以及光阻挡层,覆盖反射图案并构造为阻挡光。
根据以上所述,用于显示装置的窗口构件在光阻挡区域中包括反射图案以反射光。因此,采用该窗口构件的显示装置可以给予观看者美感或者美观。
附图说明
通过参照当结合附图考虑时的下面的详细描述,本公开的上述和其他特征和方面将变得更加明显,在附图中:
图1是示出了根据本公开的示例性实施例的包括窗口构件的显示装置的分解透视图;
图2是示出了图1中示出的显示装置的剖视图;
图3是示出了图1中示出的窗口构件的平面图;
图4是沿着图3的I-I'线截取的剖视图;
图5至图8是示出了制造图1至图4中示出的窗口构件的方法的剖视图;
图9是示出了根据本公开的另一个示例性实施例的窗口构件的剖视图;
图10是示出了根据本公开的另一个示例性实施例的窗口构件的剖视图。
具体实施方式
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的