[发明专利]用于反应器中吸热气相反应的反应器和方法

权利要求书

1.一种用于反应器中吸热气相反应的方法，其中通过气体入口装置将反应物气体引入到所述反应器中并借助于气体分布装置均匀地分布到加热区中，其中，在所述加热区中借助于加热元件将所述反应物气体加热至500-1500℃的平均温度，然后将其引导到反应区中，所述反应物气体在所述反应区中反应以提供通过气体出口装置引导出所述反应器的产物气体。

2.一种用于反应器中吸热气相反应的方法，其中通过气体入口装置将反应物气体引入到所述反应器中并引导至在其中借助于加热元件将所述反应物气体加热至500-1500℃的平均温度的加热区中，其中，通过所述反应区中的温度测量控制所述加热元件的加热，出于此目的在所述反应区中存在至少两个温度传感器，并且所述反应物气体在反应区中反应以提供最终通过气体出口装置引导出所述反应器的产物气体。

3.根据权利要求2所述的方法，其中，在所述温度传感器处所确定的所述温度与其平均值的平均偏差不超过50K。

4.根据权利要求2所述的方法，其中借助于气体分布装置将反应物气体均匀分布到所述加热区中。

5.根据权利要求3所述的方法，其中借助于气体分布装置将反应物气体均匀分布到所述加热区中。

6.根据权利要求1至5中任一项所述的方法，其中，所述反应物气体为四氯化硅和氢气，它们在至少600℃的温度下反应以提供三氯硅烷和HCl。

7.根据权利要求1至5中任一项所述的方法，其中，提供至少一个换热器，所述换热器通过逆流原理借助于在所述反应中所产生的产物气体加热反应物气体，所述气体分布装置被设置在换热器和加热区之间。

8.一种用于实施根据权利要求1至7中任一项所述方法的反应器，包括用于将反应物气体引入到所述反应器中的至少一个气体入口装置；和可以将产物气体通过其从所述反应器中引导出的至少一个气体出口装置；包括用于使所述反应物气体加热的加热元件的加热区；其中所述反应物气体反应以提供产物气体的反应区；任选地用于在所述反应区中均匀分布反应物气体的气体分布装置和所述反应区内用于确定反应温度的至少两个温度传感器。

9.根据权利要求8所述的反应器，其中，提供了适合于通过对流原理借助于所述反应中所产生的产物气体加热反应物气体的至少一个换热器，所述气体分布装置被设置在换热器和加热区之间。