[发明专利]一种制备高比表面积SiC纳米微球的方法有效

专利信息
申请号: 201310468042.3 申请日: 2013-09-30
公开(公告)号: CN103553043A 公开(公告)日: 2014-02-05
发明(设计)人: 欧阳海波;李翠艳;黄剑锋;曹丽云;殷立雄;费杰 申请(专利权)人: 陕西科技大学
主分类号: C01B31/36 分类号: C01B31/36;B82Y30/00;B82Y40/00
代理公司: 西安通大专利代理有限责任公司 61200 代理人: 汪人和
地址: 710021 *** 国省代码: 陕西;61
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摘要:
搜索关键词: 一种 制备 表面积 sic 纳米 方法
【权利要求书】:

1.一种制备高比表面积SiC纳米微球的方法,其特征在于,包括以下步骤:

1)将碳微球与二氧化硅微球按质量比(1:1)~(2:1)混合均匀,得到混合粉末;其中碳微球粒径为200~400nm,与二氧化硅微球的粒径为100~200nm;

2)将混合粉末放入真空烧结炉中,将真空烧结炉抽真空后通入氩气,并在氩气保护下自室温升温至1200℃时将真空烧结炉抽真空,然后继续升温至1300℃~1500℃,在1300℃~1500℃下烧结,然后自然降温至室温,得到产物;

3)将产物在400-600℃下煅烧,自然冷却至室温,得到高比表面积SiC纳米微球。

2.根据权利要求1所述的一种制备高比表面积SiC纳米微球的方法,其特征在于,所述步骤2)中将混合粉末放入真空烧结炉前,先将混合粉末放入刚玉坩埚内,并保持混合粉体自然堆积,混合粉体堆积高度控制在10mm以内。

3.根据权利要求1所述的一种制备高比表面积SiC纳米微球的方法,其特征在于,所述步骤2)中反应的时间为30~90min。

4.根据权利要求1所述的一种制备高比表面积SiC纳米微球的方法,其特征在于,所述步骤3)中煅烧是在马弗炉中进行的。

5.根据权利要求1或4所述的一种制备高比表面积SiC纳米微球的方法,其特征在于,所述步骤3)中煅烧的时间为1-2小时。

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