[发明专利]一种用于测量深低温强磁场下样品表面态的反射式谐振腔有效

专利信息
申请号: 201310469893.X 申请日: 2013-10-10
公开(公告)号: CN103500870A 公开(公告)日: 2014-01-08
发明(设计)人: 俞国林;吕蒙;徐勇刚;常志刚;刘新智;林铁;孙雷;褚君浩 申请(专利权)人: 中国科学院上海技术物理研究所
主分类号: H01P7/06 分类号: H01P7/06;G01N22/00
代理公司: 上海新天专利代理有限公司 31213 代理人: 郭英
地址: 200083 *** 国省代码: 上海;31
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摘要:
搜索关键词: 一种 用于 测量 低温 磁场 样品 表面 反射 谐振腔
【权利要求书】:

1.一种用于测量深低温强磁场下样品表面态的反射式谐振腔,包括:同轴电缆组件(101)、微波隔板和面板安装式连接器(102)、谐振腔盖板(103)、谐振腔(104)、铜片A(105)、铜片B(106)、螺丝A(107)和螺丝B(108),其特征在于:

所述的微波隔板和面板安装式连接器(102)与同轴电缆组件(101)相连,其末端有一天线,可用于发射微波和接收微波,微波隔板和面板安装式连接器(102)下端天线对准谐振腔盖板(103)中间孔洞,并用螺丝B(108)固定;谐振腔盖板(103)短边两个三等分点上各有一个螺孔,与谐振腔(104)两端螺孔对应,通过螺丝A(107)与谐振腔(104)固定;谐振腔盖板(103)正中央有一小孔,微波通过微波隔板和面板安装式连接器(102)的天线发射端通过小孔进入谐振腔(104),经谐振腔(104)反射后原路返回;铜片A(105)、铜片B(106)放置于谐振腔(104)内调节谐振腔大小。

2.根据权利要求1所述的一种用于测量深低温强磁场下样品表面态的反射式谐振腔,其特征在于:所述的同轴电缆组件(101)工作频率范围应与谐振腔(104)谐振频率相对应,其损耗、驻波、机械相位稳定性应符合测试要求;同轴电缆组件(101)连接器采用公头,可与微波隔板和面板安装式连接器(102)的母头连接器直接相连。

3.根据权利要求1所述的一种用于测量深低温强磁场下样品表面态的反射式谐振腔,其特征在于:所述的微波隔板和面板安装式连接器(102)的工作频率应能满足包含谐振腔(104)的谐振频率。

4.根据权利要求1所述的一种用于测量深低温强磁场下样品表面态的反射式谐振腔,其特征在于:所述的谐振腔(104)形状为中空有底圆柱形,中间挖空一长方体,形成谐振腔,四周可为圆弧状;两边有支架,可用螺丝B(108)固定于测试所需位置;另两侧边上朝上有螺孔,可将谐振腔盖板(103)固定于其上;制作材料选用紫铜,表面镀银。

5.根据权利要求1所述的一种用于测量深低温强磁场下样品表面态的反射式谐振腔,其特征在于:所述的铜片A(105)和铜片B(106)大小与谐振腔(104)对应,可正好竖直放置在谐振腔(104)内以调节其谐振腔的大小,从而调节谐振腔(104)的谐振频率,实现不同频率微波下的测量。

6.根据权利要求1所述的一种用于测量深低温强磁场下样品表面态的反射式谐振腔,其特征在于:所述的螺丝A(107)及螺丝B(108)采用铜质螺丝。

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