[发明专利]基于比值来调节数字电位器的方法、系统及电路有效

专利信息
申请号: 201310471366.2 申请日: 2013-10-10
公开(公告)号: CN103488224A 公开(公告)日: 2014-01-01
发明(设计)人: 杜翀;何亮明 申请(专利权)人: 中国科学院上海高等研究院
主分类号: G05F1/46 分类号: G05F1/46
代理公司: 上海光华专利事务所 31219 代理人: 李仪萍
地址: 201210 *** 国省代码: 上海;31
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 基于 比值 调节 数字 电位器 方法 系统 电路
【说明书】:

技术领域

本发明涉及数字电路领域,特别是涉及一种基于比值来调节数字电位器的调节方法、系统及直流电源电路。

背景技术

直流稳压电源一般均采用直流电压转换模块(DC-DC)或者低压差线性稳压器(LDO)来实现,同时使用反馈电阻网络来调节输出电压。只要改变反馈电阻网络中电阻阻值,即可根据负载需求动态调整输出电压,实现精确高效供电。

随着数字电位器技术的发展与成熟,在越来越多的应用中,反馈电阻网络中的机械式可变电阻由数字电位器所取代,由此不仅提高了产品稳定性、数字化与智能化水平,还可减少电路体积并延长使用寿命,如在申请号为200620069824.5、201010512246.9与201120377518.9的各中国专利文献中,公开了各种采用数字电位器的电路等。但是数字电位器也存在诸多不足,如阻值分辨率低与耐高压性能差、阻值误差大且温漂严重。上述问题极大限制了数字电位器在高精度领域的推广应用。

数字电位器误差来源主要包括:端到端阻值RAB误差、内部单元电阻RS误差以及输出滑动端阻值RW误差,影响因素包括制作工艺与环境温度变化等。图1为某国外大型厂家标称阻值为10K的10位数字电位器阻值误差分布。由图可知,该数字电位器端到端RAB阻值误差达到8%。虽然端到端阻值校正后差分非线性误差较小,但是考虑到滑动端RW误差与温漂因素,实践中积分非线性误差往往超过5LSB。

现有采用数字电位器的电路,往往都是按照理想公式计算数字电位器的阻值,进而配置数字电位器相应阶数,由于未考虑数字电位器自身的误差(可能到达数百欧姆),由此会严重影响电路的精度。

发明内容

鉴于以上所述现有技术的缺点,本发明的目的在于提供一种基于比值来调节数字电位器的调节方法及系统,以有效减小数字电位器的误差。

本发明的另一目的在于提供一种宽输出范围的直流电源电路。

为实现上述目的及其他相关目的,本发明提供一种基于比值来调节数字电位器的调节方法,其应用于包含由多个数字电位器构成的可变电阻单元的电路,且该电路的一相关信号与可变电阻单元的阻值相关,所述基于比值来调节数字电位器的调节方法至少包括:

1)基于所述电路的相关信号的期望值来确定可变电阻单元的期望总阻值,并基于所述期望总阻值来确定各数字电位器的阶数;

2)当各数字电位器的阶数设置后,判断预定约束条件是否满足;

3)当预定约束条件满足时,基于所述电路的相关信号的反馈值及期望值来确定阻值调整比例,并基于所述调整比例及可变电阻单元的当前阶数来确定各数字电位器阶数的调整量,随后重返步骤2);

其中,所述预定约束条件包括a或b:

a、所述电路相关信号的反馈值与期望值的误差超过第一预定范围内,且重置各数字电位器的次数小于预定次数;

b、所述可变电阻单元的实际总阻值与期望总阻值的误差超过第二预定范围内,且重置各数字电位器的次数小于预定次数。

本发明还提供一种基于比值来调节数字电位器的调节系统,其应用于包含由多个数字电位器构成的可变电阻单元的电路,且该电路的一相关信号与可变电阻单元的阻值相关,所述基于比值来调节数字电位器的调节系统至少包括:

阶数确定单元,用于基于所述电路的相关信号的期望值来确定可变电阻单元的期望总阻值,并基于所述期望总阻值来确定各数字电位器的阶数;

判断单元,用于当各数字电位器的阶数设置后,判断预定约束条件是否满足;

调整单元,用于基于所述电路的相关信号的反馈值及期望值来确定阻值调整比例,并基于所述调整比例及可变电阻单元的当前阶数来确定各数字电位器阶数的调整量;

其中,所述预定约束条件包括a或b:

a、所述电路的相关信号的反馈值与期望值的误差超过第一预定范围,且重置各数字电位器的次数小于预定次数;

b、所述可变电阻单元的实际总阻值与期望总阻值的误差超过第二预定范围,且重置各数字电位器的次数小于预定次数。

本发明还提供一种宽输出范围的直流电源电路,其至少包括:

直流稳压器;

包含可变电阻单元的电阻网络,与所述直流稳压器连接,用于调节所述直流稳压器的输出电压,其中,所述可变电阻单元包括多个数字电位器;

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国科学院上海高等研究院,未经中国科学院上海高等研究院许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201310471366.2/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top