[发明专利]具有一体能量波鞋垫的鞋类无效
申请号: | 201310472408.4 | 申请日: | 2013-07-30 |
公开(公告)号: | CN103564980A | 公开(公告)日: | 2014-02-12 |
发明(设计)人: | D·L·瓦特斯 | 申请(专利权)人: | 布朗鞋业公司 |
主分类号: | A43B17/14 | 分类号: | A43B17/14 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人: | 刘桢;严志军 |
地址: | 美国密*** | 国省代码: | 美国;US |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 具有 一体 能量 波鞋 鞋类 | ||
1.一种鞋组件,包括:
具有上表面和下表面的解剖学形状的鞋垫,所述鞋垫在所述上表面上具有多个槽,至少一些所述槽形成大体波浪形的几何形状;
所述鞋垫进一步具有成形为使所述鞋垫能够被拉邦缝合到鞋帮的周边;以及
解剖学形状的外底。
2.如权利要求1所述的鞋组件,其中,所述鞋垫进一步包括在所述下表面上的多个脊和谷,至少一些所述脊和谷以大体波浪形图案横穿所述鞋垫延伸。
3.如权利要求1所述的鞋组件,其中,所述鞋垫包括在中足区域位于穿戴者的足弓下面的升高部分。
4.如权利要求1所述的鞋组件,其中,所述鞋垫的所述上表面进一步包括凹陷区域以接收足跟。
5.如权利要求1所述的鞋组件,其中,所述鞋垫的所述上表面与人类足部的大体形状一致。
6.如权利要求2所述的鞋组件,其中,所述鞋垫的所述脊和谷彼此交替。
7.如权利要求1所述的鞋组件,其中,所述鞋垫由缓冲材料形成。
8.如权利要求1所述的鞋组件,其中,所述鞋垫与外底以一体结构形成。
9.如权利要求1所述的鞋组件,其中,所述外底包括在中足区域位于穿戴者的足弓下面的升高部分。
10.如权利要求1所述的鞋组件,其中,所述鞋垫包括围绕其后足区域的升高周边以接收并包围穿戴者的足跟。
11.如权利要求1所述的鞋组件,其中,所述外底包括围绕其后足区域的升高周边以接收并包围穿戴者的足跟。
12.如权利要求1所述的鞋组件,其中,所述鞋垫在前足区域包括弧形部分。
13.如权利要求1所述的鞋组件,其中,所述外底在前足区域包括弧形部分。
14.如权利要求1所述的鞋组件,包括位于所述鞋垫与所述外底之间的中足支撑元件,所述中足支撑元件具有比所述外底更高的刚度。
15.如权利要求2所述的鞋组件,其中,所述鞋垫的所述下表面进一步包括基面,每个脊进一步包括脊表面和脊侧壁,所述脊表面被定位为平行于且位于所述基面之下,所述脊侧壁向上朝所述基面延伸,每个谷进一步包括谷表面和谷侧壁,所述谷表面被定位为平行于且位于所述基面之上,所述谷侧壁向下朝所述基面延伸。
16.如权利要求2所述的鞋组件,其中,所述鞋垫的所述上表面包括第一基面,所述多个槽在所述第一基面之下向下延伸,所述上表面中的每个所述槽包括底部和相对的侧壁,所述上表面中的每个槽的底部大体上位于第一下平面中;以及
其中,所述鞋垫的下表面包括第二基面,所述多个谷在所述第二基面之上向上延伸,所述下表面中的每个所述谷包括顶部和相对的侧壁,所述下表面中的每个谷的所述顶部大体上位于第一上平面中;
所述多个脊在所述第二基面之下向下延伸,所述下表面中的每个所述脊包括底部和相对的侧壁,所述下表面中的每个脊的所述底部大体上位于第二下平面。
17.如权利要求2所述的鞋组件,其中,至少一些所述脊和谷以大体上正弦图案横穿所述鞋垫延伸。
18.一种鞋组件,包括:
具有上表面和下表面的解剖学形状的鞋垫;
所述上表面上的多个槽;
所述下表面上的多个交替的脊和谷,至少一些所述脊和谷以大体波浪形图案横穿所述鞋垫延伸;以及
解剖学形状的外底。
19.如权利要求18所述的鞋组件,其中,所述鞋垫包括在中足区域位于穿戴者的足弓下面的升高部分。
20.如权利要求18所述的鞋组件,其中,所述鞋垫的所述上表面进一步包括凹陷区域以接收足跟。
21.如权利要求18所述的鞋组件,其中,所述鞋垫由缓冲材料形成。
22.如权利要求18所述的鞋组件,包括被定位且位于所述鞋垫与所述外底之间的中足支撑元件,所述中足支撑元件具有比所述外底更高的刚度。
23.如权利要求18所述的鞋组件,其中,所述鞋垫包括成形为使所述鞋垫能够被拉邦缝合到鞋帮的周边。
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