[发明专利]表面改性剂

说明书

本申请是分案申请，其原申请的申请号为200680010403.8，申请日为2006年3月30日，发明名称为“表面改性剂”。

技术领域

本发明涉及用于在各种基材的表面上形成低表面张力层或防尘层的表面改性剂，以及使用所述表面改性剂形成处理层的方法。此外，本发明涉及光学元件（例如，抗反射膜、光学滤镜、光学透镜、眼镜镜片、分光镜（beam splitter）、棱镜、镜子等），其中使用了所述表面改性剂；应用在显示器（例如，液晶显示器、CRT显示器、投影电视、等离子体显示器、EL显示器等）的屏幕表面的抗反射光学元件；光学功能性元件；其中所述光学功能性元件粘附在显示屏表面的显示器装置；经处理的镜片；经处理的陶器等。

背景技术

抗反射涂层、光学滤镜、光学透镜、柔性焦距透镜组、分光镜、棱镜、镜子和其他光学元件以及卫浴用具在使用时易于沾上指纹、皮肤油（skin oil）、汗、化妆品等。一旦沾上，这些污垢不易清除，特别是，粘在具有抗反射涂层的光学元件上的污垢非常明显并造成问题。此外，汽车和飞机的窗户要求具有持久的防水性。

为解决与污垢和防水性相关的问题，迄今已提出使用各种防污剂的技术。

例如，日本未审查专利公报第1997-61605号已提出通过使用含全氟烷基的化合物对基材进行表面处理而得到的防污抗反射滤镜。日本已审查专利公报第1994-29332号已提出一种防污、低反射塑料，在其表面上具有包括含聚氟烷基的单硅烷和二硅烷化合物和卤素硅烷、烷基硅烷或烷氧基硅烷化合物的抗反射涂层。日本未审查专利公报第1995-16940号已提出通过在主要由二氧化硅构成的光学薄膜上形成(甲基)丙烯酸全氟烷基酯和含烷氧基硅烷基团的单体的共聚物而得到的光学元件。

然而，由迄今已知的方法形成的防污涂层具有的防污性不足，尤其是，难以从其上去除诸如指纹、皮肤油、汗和化妆品等污垢。此外，当长期使用时，其防污性大大降低。因此，需要开发具有优异防污性和优异耐用性的防污涂层。

发明内容

本发明用以解决上述提到的现有技术的问题并提供了能形成优异的、经久耐用的低表面张力处理层的表面改性剂，所述处理层能防止湿气或诸如指纹、皮肤油、汗和化妆品等污垢粘附在各种基材，尤其是抗反射膜等光学元件和玻璃的表面上，并且一旦沾上时，能容易地擦去污垢或湿气。

本发明的另一个目的是提供制备能形成优异的低表面张力层的表面改性剂的方法。

本发明的再一个目的是提供能容易地形成优异的低表面张力层的方法。

本发明的又一个目的是提供配备有所述优异的低表面张力层的光学元件和各种基材。

本发明的又一个目的是提供配备有所述优异的低表面张力层的抗反射光学元件。

本发明的又一个目的是提供配备有所述抗反射元件的光学功能性元件。

本发明的又一个目的是提供显示器装置，所述显示器装置具有配备有所述光学功能性元件的显示屏表面。

本发明的又一个目的是提供本发明的化合物在微型制造领域，例如纳米压印（nanoimprinting）中的应用，其在近年已有显著的技术进展，从而实现了精确的脱模。

本发明的又一个目的是提供本发明的化合物在装置制造中的应用以提供一种材料和加工方法，使得由于本发明的化合物的优异排斥性能从而可以容易地加工宽度非常小的线条（line）。

本发明的又一个目的是提供本发明的化合物在诸如混凝土、石灰石、花岗岩或大理石等石制品的处理中的应用。

本发明提供了一种防尘剂，所述防尘剂含有由通式(A)和/或部分水解产物通式(B)表示的有机硅酮化合物。

F-(CF₂)_q-(OC₃F₆)_m-(OC₂F₄)_n-(OCF₂)_o(CH₂)_pX(CH₂)_rSi(X')_3-a(R¹)_a  (A)

在通式（A）中，q是1～3的整数；m、n和o独立地为0～200的整数；p是1或2；X是O或者二价有机基团；r是2～20的整数；R¹是C_1-22直链或支化的烃基；a是0～2的整数；X'是水解性基团。