[发明专利]低温恒温槽及低温恒温控制方法

说明书

技术领域

本发明涉及一种低温恒温槽及低温恒温控制方法。

背景技术

低温恒温槽广泛应用于石油、化工、电子仪表、物理、化学、生物工程、医药卫生、生命科学、轻工食品、物性测试及化学分析等研究部门、高等院校、企业质检及生产部门。为试验样品或生产的产品恒定温度试验或测试提供一个热冷受控、温度均匀恒定的场源。也可作为直接加热/制冷和辅助加热/制冷的热源或冷源。

目前使用的低温恒温槽采用PID（比例积分微分）控制技术，操作设置繁琐，存在温度误差较大。这种低温恒温槽可满足部分热物理性质（如饱和蒸气压、PVTx性质等）的测量，但对其它热物理性质（如临界参数、气体音速、粘度等）的测量都不适合。

发明内容

本发明的一个目的是提出一种对温度控制精度高且操作方便的低温恒温槽。

本发明的另一个目的是提出一种体积小且成本低的低温恒温槽。

本发明的又一个目的是提出一种对温度控制精度高且操作方便的低温恒温控制方法。

为达此目的，一方面，本发明采用以下技术方案：

一种低温恒温槽，所述低温恒温槽包括内部设有容置空间的箱体、用于显示低温恒温槽工作状态的显示装置、用于对容置空间内流体制冷或加热的制冷/加热装置、用于控制所述制冷/加热装置工作状态的控制装置、用于将容置空间内流体输入/输出的循环装置、以及用于测量容置空间内流体温度的温度测量装置；其中，显示装置、制冷/加热装置、循环装置和温度测量装置分别连接至所述控制装置，所述制冷/加热装置、循环装置和温度测量装置安装在所述箱体的容置空间内。

特别是，所述控制装置为ARM处理器。

进一步，所述ARM处理器通过脉冲宽度调制技术控制所述制冷/加热装置。

进一步，所述ARM处理器为32位精简指令集ARM处理器。

特别是，所述显示装置为触摸屏显示器，用于显示流体实时温度值、设定温度值、操作时间和/或低温恒温槽工作状态，并通过触摸屏设定低温恒温槽的工作状态和状态参数。

特别是，所述低温恒温槽还包括位于所述箱体外的副箱体，通过所述循环装置将流体在箱体的容置空间和副箱体之间输入/输出，在所述副箱体内形成第二恒温场。

特别是，所述制冷/加热装置包括压缩机和加热电阻丝。

另一方面，本发明采用以下技术方案：

一种使用上述低温恒温槽的低温恒温控制方法，所述ARM处理器通过脉冲宽度调制技术控制所述制冷/加热装置，所述方法包括下述步骤：

步骤1.在显示装置中输入设定温度值；

步骤2.温度测量装置将测得的实时温度值反馈至控制装置；

步骤3.所述控制装置将实时温度值与设定温度值做比较，当实时温度值低于设定温度值时启动制冷/加热装置的加热功能，当实时温度值高于设定温度值时启动制冷/加热装置的制冷功能。

特别是，在步骤3中当实时温度值比设定温度值低的数值多于N时，启动制冷/加热装置的最大功率进行加热工作；当实时温度值比设定温度值低的数值不多于N时，启动制冷/加热装置并随温度差的减小而逐步减小加热功率，令实时温度值达到设定值。

特别是，在步骤3中当实时温度值比设定温度值高的数值多于M时，启动制冷/加热装置的最大功率制冷功能；当实时温度值比设定温度值高的数值不多于M时，启动制冷/加热装置并随温度差的减小而逐步减小制冷功率，令实时温度值达到设定值。

本发明低温恒温槽及低温恒温控制方法通过脉冲宽度调制技术控制制冷/加热装置，实现了对温度的高精度控制，且操作方便，满足了各种常见热物理性质的测量需要。控制装置采用ARM处理器，减小了体积，降低了设备成本。

附图说明

图1是本发明低温恒温槽优选实施例一整体结构示意图；

图2是优选实施例一内部结构示意图。

图中标记为：

1、箱体；2、显示装置；3、容置空间；4、内嵌式出水口。

具体实施方式

下面结合附图并通过具体实施方式来进一步说明本发明的技术方案。

优选实施例一：

如图1和图2所示，本优选实施例提供一种低温恒温槽，该低温恒温槽包括内部设有容置空间3的箱体1、用于显示低温恒温槽工作状态的显示装置2、用于对容置空间3内流体制冷的压缩机、用于对容置空间3内流体加热的加热电阻丝用于控制压缩机和加热电阻丝工作状态的控制装置、用于将容置空间3内流体输入/输出的循环装置、用于测量容置空间3内流体温度的温度测量装置、以及位于箱体外的副箱体。