[发明专利]一种流平剂和防缩孔剂有效

专利信息
申请号: 201310475405.6 申请日: 2013-10-12
公开(公告)号: CN103524651A 公开(公告)日: 2014-01-22
发明(设计)人: 罗菊香;程德书 申请(专利权)人: 三明学院
主分类号: C08F120/18 分类号: C08F120/18;C08F220/18;C08F293/00;C08F220/22;C08F220/14;C08F2/38;C09D7/06;C09D7/12;C07C329/00;C07C327/36
代理公司: 福州元创专利商标代理有限公司 35100 代理人: 蔡学俊
地址: 365004 福*** 国省代码: 福建;35
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摘要:
搜索关键词: 一种 流平剂 缩孔
【权利要求书】:

1.一种聚合物,其特征在于它是由R基团含有氟代烷基的RAFT试剂调控(甲基)丙烯酸烷基酯单体和/或(甲基)丙烯酸环烷基酯单体和/或(甲基)丙烯酸和/或其它来源的能生成自由基的乙烯基单体聚合而得到的端基含有氟代烷基的聚合物,其中,R基团含有氟代烷基的RAFT试剂通式如下所示:

     

式中,Z,X, R1,R2彼此独立,Z选自任取代的烷基、任取代的芳基、任取代的杂芳基、任取代的碳环基; X任选自S、O、CH2; R1为含氟有机物,其选自:CnF2n+1(CH2)m-、A CnF2n(CH2)m-、CnF2n+1(CH2)m-(OCH2CHR2P-、A CnF2n(CH2)m-(OCH2CHR3P-、A CnF2n(CH2)m-V-、CnF2n+1(CH2)m-V-、CnF2n+1(CH2)m-(OCH2CHR3)-V-、A CnF2n(CH2)m-(OCH2CHR3P-V-,其中,A=H、Cl、Br、I、C1-12的烷基或者-O-C1-12的取代基,2≤n≤20,0≤m≤4,0≤p≤20,V指的是间隔基团,其选自酯、酰胺键、磺胺键、巯基、胺酯键、或者烷基;R2选自 H、金属盐、铵盐、烷基,或CnF2n+1(CH2)m-、A CnF2n(CH2)m-、CnF2n+1(CH2)m-(OCH2CHR3P-、A CnF2n(CH2)m-(OCH2CHR3P-、A CnF2n(CH2)m-V-、CnF2n+1(CH2)m-V-、CnF2n+1(CH2)m-(OCH2CHR3)-V-、A CnF2n(CH2)m-(OCH2CHR3P-V-,其中,A=H、Cl、Br、I、C1-12的烷基或者-O-C1-12的取代基,2≤n≤20,0≤m≤4,0≤p≤20,V指的是间隔基团,其选自酯、酰胺键、磺胺键、巯基、胺酯键和烷基,R3选自H或者甲基。

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