[发明专利]光偏转器、光源设备、图像投影装置和显示装置

说明书

技术领域

本发明涉及光偏转器、光源设备、图像投影装置和显示装置的至少一种。

背景技术

改变光传播方向的装置(光偏转器)可以通过采用反射镜来反射光以实现偏转光。

公开号为No.2011-013317的日本专利申请公开了一种关于光源单元(光偏转器)的技术，其具有包括基本设置在一个平面内的多个光源的光源组，和反射从该光源组发射出的光线束作为在其列方向上减小的光线束的第一反射镜组，及类似物。

在其中在一个方向上扩展(spread)的基本椭圆形横截面的光束(例如，半导体激光光束)被用作光发射元件(光源)的情况下，会需要对具有大致椭圆形横截面的光束进行偏转以提高光利用效率。例如，对于公开号为No.2011-013317的日本专利申请中公开的技术，会需要对应于光发射元件所发射的光束的基本椭圆形横截面设置反射镜或类似物。

但是，公开号为No.2011-013317的日本专利申请没有描述用在其中采用发射基本椭圆形横截面的光束的光发射元件的情况下的光偏转器的技术。此外，在公开号为No.2011-013317的日本专利申请披露的技术中，多个光源(光发射元件)基本设置在一个平面内以提供列和行，因此，当采用发射基本椭圆形横截面的光束的光发射元件的情况下，光利用效率可能会降低。此外，在公开号为No.2011-013317的日本专利申请披露的技术中，多个光源(光发射元件)基本设置在一个平面内，因此，当多个光发射元件被设置以输出较高亮度的合成光时，光偏转器的尺寸会增大。

发明内容

根据本发明的一个方面，提供了一种光偏转器，其包括设置成发射具有基本椭圆形横截面的光束的光发射元件和设置成对光发射元件所发射的光进行会聚的透镜，其中光发射元件的光轴和透镜的光轴是偏心的(decentering)并且具有基本椭圆形截面的光束的纵轴设置在与透镜上偏心的方向正交的方向上。

根据本发明的另一个方面，提供了一种光源设备，包括上述光偏转器，以及设置成对传输通过多个透镜的光进行反射的反射器，其中反射器包括设置在与多个光发射元件相对的位置的第一反射部件和设置在以基本圆形形状设置的多个光发射元件的基本圆形的中心部分的第二反射部件，其中第一反射部件将从多个光发射元件发射的多束光束向着第二反射部件的方向反射，并且其中第二反射部件在辐射方向上对由第一反射部件所反射的多束光束的每一束进行反射以产生合成光。

根据本发明的另一方面，提供了一种图像投影装置，具有上述光源设备，设置为通过采用光源设备所产生的合成光来投影图像的投影光学系统，和设置为形成待投影的图像的图像形成装置。

根据本发明的另一方面，提供了一种显示装置，具有上述光源设备，设置为对来自于光源设备的光量进行均匀化的光量均匀化部件，设置为通过使用来自光源设备的光而形成图像的图像形成装置，和设置为将由光量均匀化部件进行光量均匀化后的输出光传输到图像形成装置的传输光学系统。

附图说明

图1是表示根据本发明的实施例的光偏转器的一个示例的示意性配置图。

图2A和图2B是表示根据本发明的实施例的光偏转器的一个示例的示意性略图。

图3A和图3B是表示根据本发明的实施例的光偏转器的主要部分的一个示例的示意图。

图4是表示根据本发明的实施例的光偏转器中光发射元件的设置的一个示例的示意图。

图5是表示根据本发明的实施例中的实施示例1的光源设备的一个示例的示意性配置图。

图6A和图6B是表示根据本发明的实施例中的实施示例1的光源设备的一个示例的示意性略图。

图7是表示根据本发明的实施例中的实施示例1的光源设备的一个示例的示意性横截面图。

图8A和图8B是表示根据本发明的实施例中的实施示例1的光源设备中的温度调节装置的一个示例的示意性略图。

图9是表示根据本发明的实施例中的实施示例1的变型示例1的光源设备的一个示例的示意性横截面图。

图10是表示根据本发明的实施例中的实施示例1的变型示例2的光源设备的一个示例的示意性横截面图。

图11是表示根据本发明的实施例中的实施示例2的图像投影装置的一个示例的示意性配置图。

图12是根据本发明的实施例中的实施示例2的图像投影装置的一个示例的示意性系统图。

图13是根据本发明的实施例中的实施示例3的图像投影装置的一个示例的示意性配置图。

具体实施方式