[发明专利]校准装置、校准方法和测量装置

权利要求书

1.一种用于校准光学装置的校准装置，所述光学装置具有扫描部件并且通过旋转扫描部件来在物体上扫描光，所述校准装置包括：

靶部件，包括被来自扫描部件的光照射的区域；

取得单元，被配置成取得被所述区域反射的光的光量；以及

处理单元，被配置成执行用于计算校准扫描部件的旋转角度所需的校准值的处理，

其中，所述区域被配置成非平面的以使得通过取得单元取得的光量根据光照射位置而改变，并且

处理单元执行：

第一处理，用于在扫描部件被旋转以用光照射所述区域的基准位置的状态中，通过取得单元取得被所述区域反射的光的光量；

第二处理，用于基于在第一处理中取得的光量，计算在第一处理中所述区域被光实际照射的实际照射位置；以及

第三处理，用于根据在第二处理中计算的实际照射位置和所述区域的基准位置，计算校准值。

2.根据权利要求1所述的装置，其中，通过具有凹面或凸面的反射镜来配置所述区域。

3.根据权利要求1所述的装置，其中，通过具有凹面或凸面的柱形反射镜来配置所述区域。

4.根据权利要求2所述的装置，其中，取得单元包括具有被配置成检测被所述区域反射的光的检测面的检测单元，

令(x,y)是检测面上的位置坐标，令d是检测面的中心与检测面上的被所述区域反射的光的入射位置之间的偏差量，令a是被所述区域反射并且进入检测面的光的半径，并且令J₁()是第一类贝塞尔函数，

当所述区域被光照射时通过取得单元取得的理想光量I(d,a)通过下式表示：

I(d,a)=∫-aa∫-aa(2J1(x2+(y-d)2)x2+(y-d)2)2dxdy]]>

根据理想光量I(d,a)来计算被光照射的所述区域的校准值。

5.根据权利要求1所述的装置，其中，通过包括如下步阶的元件来配置所述区域，所述步阶具有生成将被反射的光的λ/4的相位差的光路长度差。

6.根据权利要求1所述的装置，其中，通过具有有着凹面或凸面的圆锥形状的反射镜来配置所述区域。

7.根据权利要求1所述的装置，其中，多个所述区域被以二维模式布置在靶部件上。

8.根据权利要求1所述的装置，还包括：在保持靶部件的同时移动的载置台，

其中，处理单元将载置台的移动和第一处理交替地重复多次。

9.根据权利要求1所述的装置，其中，所述光学装置是测量装置，所述测量装置包括测量头并且测量物体的形状，所述测量头包括扫描部件和配置成检测被物体反射的光的检测单元。