[发明专利]彩釉陶瓷瓦及其制备方法和该方法所用的成型装置

权利要求书

1.一种彩釉陶瓷瓦，其特征在于该彩釉陶瓷瓦包括瓦体(10)和结合于瓦体(10)在使用状态下朝向外的表面的彩釉层(101)，所述的瓦体(10)由以下按质量百分数配比的原料构成：粘土25-40%、石英砂10-20%、辅助料5-15%、熔剂30-45%和添加剂0.15-0.5%。

2.根据权利要求1所述的彩釉陶瓷瓦，其特征在于所述的辅助料为瓷石、高铝矾土、滑石和镁质泥中的任意一种或以上的按任意比例相混的混合物；所述的熔剂为钾长石、钙长石、钠长石和/或钡长石；所述的添加剂为腐植酸钠、偏硅酸钠或三聚磷酸钠。

3.一种如权利要求1所述的彩釉陶瓷瓦的制备方法，其特征在于包括以下步骤：

A）原料准备，按质量百分数取粘土25-40%、石英砂10-20%、辅助料5-15%、熔剂30-45%和添加剂0.15-0.5%，得到原料；

B）球磨制浆，将由步骤A）得到的原料引入球磨机并且加水球磨，控制球磨机的转速、控制球磨时间、控制球磨机内的球石与原料的重量比以及控制球石的级配，出球磨机进行过筛，得到料浆，并且控制料浆的含水率；

C）喷雾制粉，由送浆泵将由步骤B）得到的料浆在控制送浆泵的压力的状态下并且以雾状送入干燥塔，控制干燥塔的干燥温度和控制干燥后的粉料的含水率，出干燥塔后引入振动筛过筛，过筛后进行陈腐处理，并且控制陈腐处理的时间，得到素坯粉料；

D）素坯压制，将由步骤C）得到的素坯粉料引入成型装置压制成型，得到素坯；

E）素坯干燥，将由步骤D）得到的素坯在行进状态下引经卧式干燥窑干燥，并且控制干燥温度和控制素坯的行进速度以及控制干燥后的素坯的含水率，出卧式干燥窑，得到坯体；

F）施釉，对由步骤E）得到的坯体在使用状态下朝向上的一侧表面以及四周的侧面施釉，并且控制坯体在施釉之前的温度以及控制坯体表面的施釉量，得到待烧成坯；

G）烧成，将由步骤F）得到的待烧成坯在行进状态下自烧成窑炉的入口引入直至从烧成窑炉的出口引出，并且控制烧成窑炉的工艺参数，得到彩釉陶瓷瓦。

4.根据权利要求3所述的彩釉陶瓷瓦的制备方法，其特征在于步骤B）中所述控制球磨机的转速和控制球磨时间是将球磨机的转速和球磨时间分别控制为10-15rpm和5-12h，所述的控制球磨机内的球石与原料的重量比是将球石与原料的重量比控制为1.5-1.8∶1，所述的控制球石的级配是将直径为3-5㎝的球石控制为占球石总重量的70%，将直径为6-8㎝的球石控制为占球石总重量的20%，而将直径为9-12㎝的球石占球石总重量的10%，所述的过筛为过30-40目的筛，所述的控制料浆的含水率是将料浆的含水率控制为33-38%；步骤C）中所述的控制送浆泵的压力是将送浆泵的压力控制为1-1.5MPa，所述的控制干燥塔的干燥温度是将干燥塔的干燥温度控制为650-750℃，所述的控制干燥后的粉料的含水率是将干燥后的粉料的含水率控制为6-8%，所述的过筛为过6-10目筛，所述的陈腐处理是指将过筛后的粉料在自然环境下并且在料仓内放置12h以上。

5.根据权利要求3所述的彩釉陶瓷瓦的制备方法，其特征在于步骤E）中所述的控制干燥温度是将干燥温度控制为120-180℃，所述的控制素坯的行进速度是将素坯的行进速度控制为3-5m/min，所述的控制干燥后的素坯的含水率是将干燥后的素坯的含水率控制为0.3-0.8%；步骤F）中所述的控制坯体在施釉之前的温度是将坯体在施釉之前的温度控制为60-100℃，所述的控制坯体表面的施釉量是将施釉量控制为700-1000g/㎡。

6.根据权利要求3所述的彩釉陶瓷瓦的制备方法，其特征在于步骤G）中所述的控制烧成窑炉的工艺参数是将烧成窑炉自入口至出口分成三个温区，第一温区为升温区，第二温区为高温区，而第三温区为降温区，其中：第一温区以40-45℃/min的升温速率将温度自常温升温至950℃，第二温区以45-55℃/min的升温速率将温度自950℃升温至1200℃，而第三温区以50-80℃/min的降温速率将温度自1200℃降温至70-150℃；所述待烧成坯的行进速度为3-5m/min。