[发明专利]沉积设备及将沉积材料沉积在基板上的方法有效
申请号: | 201310486450.1 | 申请日: | 2013-10-17 |
公开(公告)号: | CN103882381B | 公开(公告)日: | 2017-12-29 |
发明(设计)人: | 金元容;全镇弘 | 申请(专利权)人: | 三星显示有限公司 |
主分类号: | C23C14/24 | 分类号: | C23C14/24;C23C14/04 |
代理公司: | 北京铭硕知识产权代理有限公司11286 | 代理人: | 刘奕晴,韩芳 |
地址: | 韩国京畿*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 沉积 设备 材料 基板上 方法 | ||
本申请要求于2012年12月21日提交的第10-2012-0151026号韩国专利申请的优先权,该韩国专利申请的内容通过引用包含于此。
技术领域
本公开涉及一种沉积设备。
背景技术
近年来,由于有机发光显示器具有优异的亮度和视角并且不必像液晶显示器那样包括单独的光源,因此作为下一代显示装置,有机发光显示器已经引起了关注。因此,有机发光显示器具有纤薄和质量轻的优点。另外,有机发光显示器具有其它性能,比如,例如响应速度快、能耗低、亮度高等。
通常,有机发光显示器包括有机发光装置,有机发光装置包括阳极、有机发光层和阴极。空穴和电子通过阳极和阴极注入到有机发光层中,并且在有机发光层中复合,以产生激子(电子-空穴对)。激子发出作为光的能量,其中,在激发态返回到基态时放出能量。
阳极和阴极由金属薄层或透明导电薄层形成。有机发光层由至少一层有机薄层形成。为了在有机发光显示器上形成有机薄层和金属薄层,使用沉积设备。沉积设备通常包括填充有沉积材料的坩埚、喷射沉积材料的喷嘴、其上设置有沉积材料的基板和具有开口部分的掩模。
发明内容
本公开提供了一种能够使用激光掩模将沉积材料沉积在基板上的沉积设备。
本发明构思的实施例提供了一种沉积设备,所述沉积设备包括:真空室;基板,设置在真空室中;沉积源,设置在真空室中并且面对基板,用于将沉积材料提供到基板上;激光振荡器,产生第一激光束;光学单元,连接到真空室的第一侧并使第一激光束分束,以产生多束掩模激光束。掩模激光束照射到真空室中以被设置在基板和沉积源之间,与掩模激光束接触的沉积材料被氧化,而穿过掩模激光束的沉积材料被沉积在基板上。
掩模激光束设置为沿垂直于基板的方向与基板分隔开。
掩模激光束沿垂直于基板的方向与基板分隔开大约0.1mm到大约1.0mm的距离。
掩模激光束基本上与基板平行地布置并且掩模激光束彼此以规则间隔分隔开。
光学单元包括:扩束器,被构造为使第一激光束扩大;分束器,被构造为使扩大后的第一激光束分束,以产生多束第二激光束;光束控制器,被构造为控制第二激光束中的相应的第二激光束的宽度以及第二激光束之间的距离,以产生掩模激光束。
扩束器包括:凹透镜,被构造为使第一激光束扩大;凸透镜,被构造为向分束器提供扩大后的第一激光束。
分束器包括多个透镜单元,所述多个透镜单元被构造为使扩大后的第一激光束分束而产生第二激光束。
光束控制器包括多个准直透镜单元,所述多个准直透镜单元分别对应于所述多个透镜单元,每个准直透镜单元被构造为控制从所述多个透镜单元中的相应的透镜单元提供的相应的第二激光束的宽度以及第二激光束之间的距离,以产生掩模激光束。
沉积源包括:坩埚,被构造为加热填充在坩埚中的沉积材料,以使沉积材料蒸发;多个喷嘴,被构造为将蒸发的沉积材料喷射到基板上。
本发明构思的实施例提供了一种将沉积材料沉积到基板上的方法,所述方法包括:在真空室中设置基板;产生第一激光束;使第一激光束分束,以产生多束掩模激光束;提供沉积材料;将掩模激光束照射到真空室中并照射到沉积材料上,使得与掩模激光束接触的沉积材料被氧化,而穿过掩模激光束的沉积材料沉积在基板上。
根据上述的,沉积设备可以使用激光掩模将沉积材料沉积在基板上。
附图说明
当结合附图考虑时,通过参照以下详细的描述,本公开的以上和其它优点将变得更加清楚,其中:
图1是示出了根据本公开实施例的沉积设备的平面图;
图2是示出了在图1中示出的光学单元的构造的视图;
图3是沿图1中示出的I-I′线截取的剖视图;
图4是沿图1中示出的II-II′线截取的剖视图;
图5是示出了使用掩模激光束在基板上形成有机发光层的过程的视图;
图6是沿图5中示出的III-III′线截取的剖视图;
图7是示出了通过使用根据本公开的实施例的沉积设备形成的有机发光装置的剖视图。
具体实施方式
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