[发明专利]一种双波长综合泵浦的侧泵激光模块有效
申请号: | 201310487370.8 | 申请日: | 2013-10-17 |
公开(公告)号: | CN103532003A | 公开(公告)日: | 2014-01-22 |
发明(设计)人: | 丁欣;盛泉;范琛;李斌;张巍;姜鹏波;刘简;史伟;姚建铨 | 申请(专利权)人: | 天津大学 |
主分类号: | H01S3/23 | 分类号: | H01S3/23;H01S3/16;H01S3/0941 |
代理公司: | 天津市北洋有限责任专利代理事务所 12201 | 代理人: | 温国林 |
地址: | 300072*** | 国省代码: | 天津;12 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 波长 综合 激光 模块 | ||
1.一种双波长综合泵浦的侧泵激光模块,其特征在于,所述侧泵激光模块包括:漫反射腔,所述漫反射腔包括腔体,
所述腔体内设置有石英玻管,所述石英玻管内设置有激光增益介质;所述激光增益介质与所述石英玻管之间形成水流通道,通冷却水对所述激光增益介质进行制冷;在所述腔体上沿所述激光增益介质的通光方向等间距设置有多个通光狭缝,所述通光狭缝处设置有半导体激光器组,所述半导体激光器组设置有配套热沉;所述半导体激光器组包含有不同发射波长的第一组半导体激光器和第二组半导体激光器;所述第一组半导体激光器和所述第二组半导体激光器发射的泵浦光波长分别对应所述激光增益介质的传统泵浦吸收带和共振泵浦吸收带,所述传统泵浦光和所述共振泵浦光同时对所述激光增益介质进行泵浦,即综合泵浦;所述第一组半导体激光器和第二组半导体激光器的工作电流均可单独控制,从而能够根据需要对入射的综合泵浦光的功率配比进行调整。
2.根据权利要求1所述的一种双波长综合泵浦的侧泵激光模块,其特征在于,所述第一组半导体激光器和第二组半导体激光器均围绕所述激光增益介质的通光方向按角度成等间距分布,从而能够分别实现对所述激光增益介质的均匀泵浦。
3.根据权利要求1所述的一种双波长综合泵浦的侧泵激光模块,其特征在于,所述激光增益介质为:Nd:YAG晶体时,所述第一组半导体激光器和所述第二组半导体激光器的输出波长分别为808nm和885nm。
4.根据权利要求1所述的一种双波长综合泵浦的侧泵激光模块,其特征在于,所述激光增益介质为:Nd:YLF晶体时,所述第一组半导体激光器和所述第二组半导体激光器的输出波长分别为806nm和880nm。
5.根据权利要求1所述的一种双波长综合泵浦的侧泵激光模块,其特征在于,所述激光增益介质为钕玻璃时,所述第一组半导体激光器和所述第二组半导体激光器的输出波长分别为802nm和880nm。
6.根据权利要求1所述的一种双波长综合泵浦的侧泵激光模块,其特征在于,所述半导体激光器组的数量为三组、四组或五组。
7.根据权利要求1所述的一种双波长综合泵浦的侧泵激光模块,其特征在于,所述腔体的形状为椭圆、三角、五角或矩形。
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