[发明专利]涂覆剂组合物、包含该组合物的表面处理剂和利用该表面处理剂表面处理后的物品有效
申请号: | 201310500245.6 | 申请日: | 2013-10-22 |
公开(公告)号: | CN103773202B | 公开(公告)日: | 2017-09-22 |
发明(设计)人: | 山根祐治;小森久敏;佐藤伸一;小池则之 | 申请(专利权)人: | 信越化学工业株式会社 |
主分类号: | C09D171/00 | 分类号: | C09D171/00;C08G65/00;C03C17/30;D06M15/53;D21H19/10 |
代理公司: | 隆天知识产权代理有限公司72003 | 代理人: | 张永康,向勇 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 涂覆剂 组合 包含 表面 处理 利用 物品 | ||
1.一种涂覆剂组合物,其特征在于,其包含由下述式(1)所表示的含氟氧化烯基单侧末端水解性聚合物和由下述式(2)所表示的含氟氧化烯基两末端水解性聚合物中的任一种以上,
式(1)中,Rf基是2价含全氟氧化烯基的基团,X是-(CH2)nSiX'基或氢原子,X中1个以下是氢原子,n是6~10的整数;X'是水解性基团,
式(2)中,Rf、X及n与上述式(1)相同;但X中氢原子的个数,在各自的单侧末端上是1个以下。
2.如权利要求1所述的涂覆剂组合物,其中,前述式(1)的Rf基,包含3~200个由下述通式所表示的重复单元,
-CdF2dO-
式中,d在每单元中独立地为1~6的整数。
3.如权利要求1所述的涂覆剂组合物,其中,前述式(1)的Rf基,是由下述通式(3)、(4)及(5)中的任一个所表示的基团,
式(3)中,Y独立地为F或CF3基,m是3~200的整数,e是1~3的整数,
-(CF2CF2CF2O)mCeF2e- (4)
式(4)中,m是3~200的整数,e是1~3的整数,
式(5)中,Y独立地为F或CF3基,p、q分别为0~200的整数且p+q=3~200,各重复单元可以无规键结;并且,e是1~3的整数。
4.如权利要求1所述的涂覆剂组合物,其中,前述式(2)的Rf基,是由下述通式(6)、(7)及(8)中的任一个所表示的基团,
式(6)中,Y分别独立地为F或CF3基,e是1~3的整数,f是2~6的整数,r、t分别是0~200的整数且r+t=3~200,s是0~6的整数,各重复单元可以无规键结,
-CeF2e(CF2CF2CF2O)mCeF2e-(7)
式(7)中,m是3~200的整数,e是1~3的整数,
式(8)中,Y分别独立地为F或CF3基,e是1~3的整数,p、q分别是0~200的整数且p+q=3~200,各重复单元可以无规键结。
5.一种表面处理剂,其特征在于,其含有权利要求1至4中的任一项所述的涂覆剂组合物、和/或含有该含氟氧化烯基聚合物的部分水解缩合物的涂覆剂组合物。
6.一种物品,其是利用权利要求5所述的表面处理剂处理后的物品。
7.如权利要求6所述的物品,其中,所述物品是利用表面处理剂处理后的物品,且为光学物品、薄膜、玻璃及石英基板中的任一个。
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