[发明专利]一种具有分级结构的Ti涂层硬组织替换材料的制备方法在审
申请号: | 201310504040.5 | 申请日: | 2013-10-23 |
公开(公告)号: | CN103526196A | 公开(公告)日: | 2014-01-22 |
发明(设计)人: | 谢有桃;敖海勇;辛世刚;黄利平;郑学斌 | 申请(专利权)人: | 中国科学院上海硅酸盐研究所 |
主分类号: | C23C24/04 | 分类号: | C23C24/04;C25D11/26;C23F17/00;A61L27/30 |
代理公司: | 上海海颂知识产权代理事务所(普通合伙) 31258 | 代理人: | 何葆芳 |
地址: | 200050 *** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 具有 分级 结构 ti 涂层 组织 替换 材料 制备 方法 | ||
1.一种具有分级结构的Ti涂层硬组织替换材料的制备方法,其特征在于,包括如下步骤:
a)用真空等离子体法将150~450目的钛粉喷涂在基材表面,形成钛粘结层;
b)用真空等离子体法将80~250目的钛粉喷涂在所述钛粘结层表面,形成钛表面层;
c)用阳极氧化法,在氧化电压为2~30V的氧化电压下将所述钛表面层制备成钛纳米管阵列。
2.如权利要求1所述的制备方法,其特征在于:所述基材为金属或金属合金。
3.如权利要求1所述的制备方法,其特征在于,步骤a)中所述的真空等离子体法的工艺参数为:等离子体气体Ar的流量为30~50标准升/分钟,等离子体气体H2的流量为8~15标准升/分钟,粉末载气Ar的流量为1.5~3.0标准升/分钟,喷涂距离为200~400毫米,喷涂电流600~700安培,真空度为50~200毫巴。
4.如权利要求1所述的制备方法,其特征在于,步骤b)中所述的真空等离子体法的工艺参数为:等离子体气体Ar的流量为30~50标准升/分钟,等离子体气体H2的流量为8~15标准升/分钟,粉末载气Ar的流量为1.5~3.5标准升/分钟,喷涂距离为200~400毫米,喷涂电流620~700安培,真空度为50~200毫巴。
5.如权利要求1所述的制备方法,其特征在于:步骤c)中所用的电解质为氢氟酸溶液或/和磷酸二氢铵溶液。
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