[发明专利]一种离子注入机的均匀性校正控制系统

权利要求书

1.一种离子注入机的均匀性校正控制系统，该系统包括(1)剂量控制器(2)离子束扫描系统(3)电机控制器(4)移动靶台(5)均匀性控制器(6)移动法拉第(7)闭环法拉第(8)角度法拉第。其中，(1)剂量控制器通过SPI与均匀性控制器进行通讯。(5)均匀性控制器中的运动控制器控制(3)电机控制器对移动靶台运动进行调整。(1)剂量控制器通过采集(6)移动法拉第(7)闭环法拉第(8)角度法拉第以及(2)离子束扫描系统中束口主剂量杯传送回的束流信号经过分析后，对(2)离子束扫描系统(3)电机控制器发出控制信号，来控制离子注入剂量，注入位置，扫描速度等控制参数。

2.如权利要求1所述一种离子注入机的均匀性矫正控制系统，其特征在于使用(1)剂量控制器，通过通讯实现对整体均匀性矫正的控制。整个系统在(1)剂量控制器和(5)均匀性控制器的控制下实时完成注入控制。通过采集(6)移动法拉第(7)闭环法拉第(8)角度法拉第以及(2)离子束扫描系统中束口主剂量杯传送回的束流信号进行分析运算后，发出控制信号于电机控制器，修正电机运行轨迹，调整平行束校正磁铁的磁场来修正离子束的角度，达到均匀平行注入的要求。