[发明专利]用于产生电磁辐射的装置有效
申请号: | 201310511988.3 | 申请日: | 2013-09-25 |
公开(公告)号: | CN103682972B | 公开(公告)日: | 2019-03-15 |
发明(设计)人: | M·肖尔茨 | 申请(专利权)人: | TOPTICA光电公司 |
主分类号: | H01S3/101 | 分类号: | H01S3/101;H01S3/109;G02F1/37 |
代理公司: | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人: | 蔡胜利 |
地址: | 德国格*** | 国省代码: | 德国;DE |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 用于 产生 电磁辐射 装置 | ||
1.一种用于产生电磁辐射的装置,所述装置包括:产生具有基波波长的第一辐射(7)的光源(1);第一辐射(7)在其中循环的光学谐振器(2);和位于所述光学谐振器(2)中的倍频器(8),其将第一辐射(7)至少部分地转化成具有二次或者高次谐波波长的第二辐射(9),其中所述倍频器(8)包括至少一个非线性晶体(10);其特征在于,
被第一辐射(7)和第二辐射(9)穿过的至少一个分光元件(12)耦合到所述非线性晶体(10),其中,第一辐射(7)和第二辐射(9 )分别朝不同的空间方向离开所述分光元件(12);
其中,第二辐射(9)从所述光学谐振器(2)的光束平面偏转出去;
所述光学谐振器(2)中的一个反射器(6)被布置、准直或整形为使得其仅反射第一辐射(7)并且使得第二辐射(9)通过所述反射器;
所述基波波长最高500nm,所述二次或者高次谐波波长最高250nm。
2.根据权利要求1所述的装置,其特征在于,所述光学谐振器(2)由两个或更多个反射器(3,4,5,6)组成,所述两个或更多个反射器根据第一辐射(7)和第二辐射(9)离开分光元件(12)的空间方向而被布置、准直和/或整形为使得仅第一辐射(7)在所述光学谐振器(2)中循环并且所述第二辐射(9)离开所述光学谐振器(2)。
3.根据前述权利要求1所述的装置,其特征在于,所述分光元件(12)是对于第一辐射(7)和第二辐射(9)透明的本体,所述本体结合到所述非线性晶体(10)的表面上,其中所述分光元件(12)的材料对于二次或高次谐波波长的折射率与所述非线性晶体(10)的材料的折射率不同。
4.根据权利要求3所述的装置,其特征在于,所述分光元件(12)的材料对于基波波长的折射率小于所述非线性晶体(10)的材料的折射率。
5.根据权利要求3或4所述的装置,其特征在于,所述分光元件(12)的材料对于二次或高次谐波波长的折射率大于所述非线性晶体(10)的材料的折射率。
6.根据前述权利要求1到4中的任一项所述的装置,其特征在于,所述分光元件(12)是棱镜。
7.根据前述权利要求1到4中的任一项所述的装置,其特征在于,所述非线性晶体(10)的材料是硼酸钡(BBO)或者氟硼酸钾铍(KBBF)。
8.根据前述权利要求1到4中的任一项所述的装置,其特征在于,所述基波波长最高400nm,其中二次或者高次谐波波长最高200nm。
9.根据前述权利要求1到4中的任一项所述的装置,其特征在于,所述第一辐射(7)和第二辐射(9)离开所述分光元件(12)的空间方向形成至少5°的夹角α。
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