[发明专利]光致生酸化合物和包含它的光致抗蚀剂组合物，包含光致抗蚀剂的涂覆制品及其制造方法

权利要求书

1.一种式(I)的化合物：

其中a是1-10的整数，x是1-3的整数，

X¹包括氟代醇、氟化的酯或者氟化的酸酐，

Y是单键、C_1-20亚烷基、O、S、NR、酯、碳酸酯、磺酸酯、砜或者磺酰胺，其中R是H或C_1-20烷基，并且其中C_1-20亚烷基在结构上仅有碳，或者C_1-20亚烷基中的一个或多个结构碳原子被氧、羰基、酯或者包括前述至少一种的组合所替换，

Ar是取代或未取代的C₅或更高级的单环、多环或稠合多环环烷基；或者取代或未取代的C₅或更高级的单环、多环或稠合多环芳基；其中所述环烷基或芳基是碳环或包含杂原子，所述杂原子包括O、S、N、F或包括前述至少一种的组合，

每个R¹分别独立地是取代的C_5-40芳基、取代的C_5-40杂芳基、C_1-40烷基、C_3-40环烷基，其中，当x是1时，两个基团R¹分离或相互连接形成C_4-40环结构，以及

Z^-是羧酸酯、硫酸酯、磺酸酯、氨基磺酸酯、或者磺酰亚胺的阴离子，其中当Y是单键时，Z^-不是磺酸酯。

2.如权利要求1所述的化合物，其特征在于，a是1-4的整数，x是1，X¹是含1,1,1,3,3,3-六氟异丙醇的基团或者C_1-20全氟代醇的酯，Y是-O-、-S-、NR-、-O-C(=O)-、-C(=O)-O-、-O-C(=O)-O-、-OCH₂-(C=O)O-、-OCH₂C(=O)-、-SO₂-、-O-SO₂-或者包括至少一个前述基团的组合，其中R是H或者C_1-6烷基。

3.如权利要求1所述的化合物，其特征在于，Ar是取代或未取代的亚苯基、亚萘基、亚蒽基、亚菲基、亚喹啉基、亚二苯并噻吩基、噻吨酮、硫代氧杂亚蒽基，或者包括前述至少一种的组合。

4.如权利要求1所述的化合物，其特征在于，R¹独立地是取代的C_5-20芳基或C_1-20烷基，其中，当x是1时，两个基团R¹分离或相互连接形成C_4-20环结构。

5.如权利要求1所述的化合物，其特征在于，所述化合物包括具有式(Ia)、(Ib)、(Ic)、(Id)或(Ie)的那些化合物：

其中a是1-4的整数；

X¹是含氟代醇或C_1-20全氟代醇的酯的C_3-10有机基团，Y是-O-、-S-、NR-、-O-C(=O)-、–C(=O)-O-、-O-C(=O)-O-、-OCH₂-(C=O)O-、-OCH₂C(=O)-、-SO₂-、-O-SO₂-或者包括至少一个前述基团的组合，并且R是H或者C_1-6烷基，

Ar²是取代或未取代的亚苯基、亚萘基、亚蒽基、亚菲基、亚喹啉基、亚二苯并噻吩基、噻吨酮、硫代氧杂亚噻吩甲基，或者包括前述至少一种的组合，

每个R²和R³独立地是取代的不同于Ar的C_5-20芳基，或者C_1-20烷基，L是取代或未取代的C_2-20亚烷基，以及

Z^-是硫酸酯、磺酸酯、或者磺酰亚胺的阴离子。