[发明专利]一种针对干硬皮革文物的回软剂制备方法有效

专利信息
申请号: 201310516664.9 申请日: 2013-10-28
公开(公告)号: CN103571980A 公开(公告)日: 2014-02-12
发明(设计)人: 刘苗苗;王秉 申请(专利权)人: 浙江理工大学
主分类号: C14C9/02 分类号: C14C9/02
代理公司: 杭州九洲专利事务所有限公司 33101 代理人: 鲁秦
地址: 310018 浙江*** 国省代码: 浙江;33
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摘要:
搜索关键词: 一种 针对 干硬 皮革 文物 回软剂 制备 方法
【说明书】:

技术领域

发明涉及一种回软剂制备方法,尤其是一种针对干硬皮革文物的回软剂制备方法。

背景技术

中国历史悠久,出土的皮革制品文物数量众多,但是许多皮革文物出现不同程度的老化,特别在气候干燥的中国西北地区,出土的皮革制品文物均出现了干硬、开裂、不耐折的状况,亟需保护。

目前关于皮革的回软剂种类繁多,但几乎都是针对皮衣、皮鞋、皮包等服饰类产品,其回软剂的成分并不适用于文物,有的还会对文物造成再次损坏。

发明内容

本发明要解决上述现有技术的缺点,目的在于制备一种针对干硬皮革文物,并且不会对文物造成损害的回软剂。

本发明解决其技术问题采用的技术方案:包括以下步骤:

1)在天然磷脂中添加体积分数为75%的乳酸溶液,乳酸溶液用量为天然磷脂质量的1~3%;

2)将上述混合液体进行边水浴加热边搅拌处理,时间为1~3h,温度为50~70℃;

3)在上述加热搅拌过程的前30min内,逐渐加入质量分数为30%的双氧水溶液;

4)在上述加热搅拌过程结束后,用质量分数为5%的氢氧化钠溶液滴定混合液体至中性,之后对混合液体进行真空干燥,得到羟基化改性磷脂;

5)将上述羟基化改性磷脂上与亲水性氨基硅油、茶皂素、去离子水进行复配,进行搅拌乳化,得到回软剂。

所述的双氧水溶液,其用量为天然磷脂质量的5~15%。

所述步骤5)中,各成分质量含量为:羟基化改性磷脂15~25%,亲水性氨基硅油5~15%,茶皂素0.5%,剩余为去离子水。

本发明有益的效果是:一、针对性强,特别针对于干硬皮革文物的回软;二、效果明显,应用于干硬皮革,使其柔软度增加;三、对皮革文物无副作用,不会对文物造成二次损坏。

具体实施方式

下面对本发明作进一步说明:

实施例1:一种针对干硬皮革文物的回软剂制备方法,包括以下步骤:

1)在天然磷脂中添加体积分数为75%的乳酸溶液,乳酸溶液用量为天然磷脂质量的1%;

2)将上述混合液体进行边水浴加热边搅拌处理,时间为2h,温度为65℃;

3)在上述加热搅拌过程的前30min内,逐渐加入质量分数为30%的双氧水溶液,双氧水溶液用量为天然磷脂质量的15%;

4)在上述加热搅拌过程结束后,用质量分数为5%的氢氧化钠溶液滴定混合液体至中性,之后对混合液体进行真空干燥,得到羟基化改性磷脂;

5)将上述羟基化改性磷脂上与亲水性氨基硅油、茶皂素、去离子水进行复配,进行搅拌乳化,得到回软剂,其中各成分质量含量为:羟基化改性磷脂25%,亲水性氨基硅油10%,茶皂素0.5%,剩余为去离子水。

实施例2:一种针对干硬皮革文物的回软剂制备方法,包括以下步骤:

1)在天然磷脂中添加体积分数为75%的乳酸溶液,乳酸溶液用量为天然磷脂质量的2%;

2)将上述混合液体进行边水浴加热边搅拌处理,时间为1h,温度为70℃;

3)在上述加热搅拌过程的前30min内,逐渐加入质量分数为30%的双氧水溶液,双氧水溶液用量为天然磷脂质量的5%;

4)在上述加热搅拌过程结束后,用质量分数为5%的氢氧化钠溶液滴定混合液体至中性,之后对混合液体进行真空干燥,得到羟基化改性磷脂;

5)将上述羟基化改性磷脂上与亲水性氨基硅油、茶皂素、去离子水进行复配,进行搅拌乳化,得到回软剂,其中各成分质量含量为:羟基化改性磷脂15%,亲水性氨基硅油5%,茶皂素0.5%,剩余为去离子水。

实施例3:一种针对干硬皮革文物的回软剂制备方法,包括以下步骤:

1)在天然磷脂中添加体积分数为75%的乳酸溶液,乳酸溶液用量为天然磷脂质量的3%;

2)将上述混合液体进行边水浴加热边搅拌处理,时间为3h,温度为50℃;

3)在上述加热搅拌过程的前30min内,逐渐加入质量分数为30%的双氧水溶液,双氧水溶液用量为天然磷脂质量的10%;

4)在上述加热搅拌过程结束后,用质量分数为5%的氢氧化钠溶液滴定混合液体至中性,之后对混合液体进行真空干燥,得到羟基化改性磷脂;

5)将上述羟基化改性磷脂上与亲水性氨基硅油、茶皂素、去离子水进行复配,进行搅拌乳化,得到回软剂,其中各成分质量含量为:羟基化改性磷脂20%,亲水性氨基硅油15%,茶皂素0.5%,剩余为去离子水。

除上述实施例外,本发明还可以有其他实施方式。凡采用等同替换或等效变换形成的技术方案,均落在本发明要求的保护范围。

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