[发明专利]一种氧化环己烷的方法

权利要求书

1.一种氧化环己烷的方法，其特征在于，该方法在一种反应器中进行，所述反应器具有第一通道和第二通道，所述第一通道具有入口端和出口端，所述第一通道和第二通道通过具有通孔的构件邻接，所述通孔允许液体通过而不允许固体通过；该方法包括：将环己烷以及过氧化物从所述入口端送入所述第一通道中，在氧化反应条件下，与第一通道中的含有钛硅分子筛的催化剂进行接触，其中，在所述接触过程中，第一通道中的至少部分含有氧化产物的液相通过所述通孔进入所述第二通道中，从所述第二通道排出所述含有氧化产物的液相，由所述第一通道的出口端得到含有钛硅分子筛的催化剂物料，并将所述含有钛硅分子筛的催化剂物料送入换热器中进行换热，得到温度降低的含有钛硅分子筛的催化剂的物料，并将该温度降低的含有钛硅分子筛的催化剂的物料返回第一通道中；

其中，所述构件为管壁具有所述通孔的管道，其中，所述管道的内壁形成的空间作为所述第一通道，所述管道的外壁与一壳体构成的空间作为第二通道，所述钛硅分子筛为含有模板剂的钛硅分子筛，模板剂的含量为1-20重量％。

2.根据权利要求1所述的方法，其中，所述含有钛硅分子筛的催化剂为钛硅分子筛，所述通孔的平均孔径小于所述钛硅分子筛的平均粒径。

3.根据权利要求1或2所述的方法，其中，控制第一通道与第二通道的压力差，使得在所述接触过程中，第一通道中的含有氧化产物的液相全部通过所述通孔进入所述第二通道中。

4.根据权利要求3所述的方法，其中，所述第一通道的压力为0.1-3.0MPa，所述第一通道和第二通道的压力差为+(0.2-0.5)MPa。

5.根据权利要求1或2所述的方法，其中，控制环己烷的进料量使得在所述接触过程中，进入所述第二通道中的含有氧化产物的液相中环己烷的量低于20重量％。

6.根据权利要求5所述的方法，其中，环己烷与过氧化物的摩尔比为1:0.1-2.5，环己烷与钛硅分子筛的质量比为0.1-50:1。

7.根据权利要求1或2所述的方法，其中，所述接触在溶剂存在下进行，溶剂与钛硅分子筛的重量比为0.5-1000:1，所述溶剂为水、醇、酮、酸、腈和卤代烃中的一种或多种。

8.根据权利要求1或2所述的方法，其中，所述氧化反应的条件包括：温度为30-60℃。

9.根据权利要求1或2所述的方法，其中，所述过氧化物选自过氧化氢、氢过氧化物和过酸。

10.根据权利要求1或2所述的方法，其中，所述反应器还包括反冲装置，所述反冲装置用于提供对所述具有通孔的构件进行反冲洗的冲洗物。

11.根据权利要求1或2所述的方法，其中，该方法还包括将所述含有氧化产物的液相进行精馏，得到含有环己烷的反应物料和含有氧化产物的物料，并将该含有环己烷的反应物料从所述入口端送入所述第一通道中。

12.根据权利要求1或2所述的方法，其中，所述接触在碱性化合物存在下进行，所述碱性化合物的量使得接触的pH值为5-9，所述碱性化合物为氨。

13.根据权利要求1所述的方法，其中，模板剂的含量为2-10重量％。