[发明专利]等离子体生成装置组件、电弧缓解装置和组装方法

权利要求书

1.一种等离子体生成装置组件，包括：

基体，其包括内部和顶表面，该顶表面限定延伸穿过所述顶表面的多个孔口；

等离子体生成装置，其定位于所述顶表面上，所述等离子体生成装置配置成在所述等离子体生成装置被启动时发射烧蚀等离子体；以及

多个联接部件，其延伸穿过所述多个孔口并且配置成将所述等离子体生成装置联接到所述顶表面；

所述基体包括帽盖和基座，所述帽盖密封地联接到所述基座，使得在所述帽盖被联接到所述基座时，靠近所述等离子体生成装置的气体被防止流入所述基座内。

2.根据权利要求1所述的等离子体生成装置组件，其特征在于，所述多个联接部件配置成密封所述孔口，使得靠近所述等离子体生成装置的气体被防止通过所述孔口流入所述内部。

3.根据权利要求1所述的等离子体生成装置组件，其特征在于，所述等离子体生成装置包括由烧蚀材料形成的多个臂。

4.根据权利要求1所述的等离子体生成装置组件，其特征在于，还包括多个等离子体生成装置导体，其由所述联接部件联接到所述等离子体生成装置。

5.根据权利要求4所述的等离子体生成装置组件，其特征在于，所述多个等离子体生成装置导体延伸穿过所述基座。

6.根据权利要求1所述的等离子体生成装置组件，其特征在于，至少一个槽形成于所述等离子体生成装置内，以使所述等离子体生成装置能够通过所述至少一个槽排放烧蚀等离子体。

7.根据权利要求1所述的等离子体生成装置组件，其特征在于，所述等离子体生成装置配置成相对于所述基体升高和降低，并且配置成在不移除所述帽盖的情况下被替换。

8.根据权利要求7所述的等离子体生成装置组件，其特征在于，所述多个联接部件成形为使得所述等离子体生成装置能够相对于所述基体升高和降低。

9.一种用于从电事件排放能量的电弧缓解装置，所述电弧缓解装置包括：

容纳腔室；

定位于所述容纳腔室内的多个电极；以及

定位于所述容纳腔室内的等离子体生成装置组件，所述等离子体生成装置组件包括：

基体，其包括内部和顶表面，该顶表面限定延伸穿过所述顶表面的多个孔口；

等离子体生成装置，其定位于所述顶表面上并且配置成发射烧蚀等离子体，使得电弧能够形成于所述多个电极中的至少两个之间以将能量从所述电事件转移；以及

多个联接部件，其延伸穿过所述多个孔口并且配置成将所述等离子体生成装置联接到所述顶表面；

所述基体包括帽盖和基座，所述帽盖密封地联接到所述基座，使得在所述帽盖被联接到所述基座时，靠近所述等离子体生成装置的气体被防止流入所述基座内。

10.根据权利要求9所述的电弧缓解装置，其特征在于，所述多个联接部件配置成密封所述孔口，使得靠近所述等离子体生成装置的气体被防止通过所述孔口流入所述内部。

11.根据权利要求9所述的电弧缓解装置，其特征在于，所述等离子体生成装置包括由烧蚀材料形成的多个臂。

12.根据权利要求9所述的电弧缓解装置，还包括多个等离子体生成装置导体，其由所述联接部件联接到所述等离子体生成装置。

13.根据权利要求12所述的电弧缓解装置，其特征在于，所述多个等离子体生成装置导体延伸穿过所述基座。

14.根据权利要求9所述的电弧缓解装置，其特征在于，至少一个槽形成于所述等离子体生成装置内，以使所述等离子体生成装置能够通过所述至少一个槽排放烧蚀等离子体。

15.根据权利要求9所述的电弧缓解装置，其特征在于，所述等离子体生成装置配置成相对于所述基体升高和降低。

16.根据权利要求9所述的电弧缓解装置，其特征在于，所述多个联接部件攻有螺纹，以使所述等离子体生成装置能够相对于所述帽盖升高和降低。