[发明专利]一种覆膜支架

权利要求书

1.一种覆膜支架，所述覆膜支架（1）包括支架本体（2）和固定于该支架本体（2）上的覆膜（3），所述支架本体（2）沿着所述覆膜支架（1）的中心轴线（X）分为多个支架段（7），每个支架段（7）绕所述中心轴线（X）延伸一周，其中每个支架段（7）均由多个波杆（8）首尾相连以波状结构形成，

其特征在于，

所述支架本体（2）沿着所述中心轴线（X）由小直径段（4）、过渡段（5）和大直径段（6）组成，所述过渡段（5）将所述小直径段（4）和所述大直径段（6）连接，其中所述过渡段（5）中的相邻支架段之间的间距大于所述小直径段（4）中的相邻支架段之间的间距，且小于所述大直径段（6）中的相邻支架段之间的间距。

2.根据权利要求1所述的覆膜支架，其特征在于，

所述过渡段（5）中的各支架段（7）的棱高大于所述小直径段（4）中的各支架段（7）的棱高，且小于所述大直径段（6）中的各支架段（7）的棱高。

3.根据权利要求1所述的覆膜支架，其特征在于，

所述过渡段（5）中的支架段（7）的直径和棱高的尺寸同时呈梯度逐渐增大。

4.根据权利要求1所述的覆膜支架，其特征在于，

所述小直径段（4）中的相邻支架段之间的间距（A1）在0.5mm—2mm之间，所述过渡段（5）中的相邻支架段之间的间距（A2）在1mm—3mm之间，并且所述大直径段（6）中的相邻支架段之间的间距（A3）在2mm—4mm之间。

5.根据权利要求2所述的覆膜支架，其特征在于，

所述小直径段（4）中的各支架段的棱高（L1）在4mm—8mm之间，所述过渡段（5）中的各支架段的棱高（L2-1、L2-2）在7mm—10mm之间，并且所述大直径段（6）中的各支架段的棱高（L3）在8mm—13mm之间。

6.根据权利要求1—5中任一项所述的覆膜支架，其特征在于，

所述支架本体（2）的两个端部处的支架段（9.1）与相邻支架段（9.2）沿着所述中心轴线（X）部分重合，使得所述支架本体（2）的两个端部处的支架段（9.1）均具有平齐端面结构。

7.根据权利要求1—5中任一项所述的覆膜支架，其特征在于，

所述支架本体（2）由丝编制而成，所述丝具有丝头（10），其中：

将连接管（11）固定于所述丝头（10）上；或者

将显影点或显影管（12）固定于所述丝头（10）上；或者

将所述丝头（10）打磨处理后弯成圆圈状；或者

先将所述丝头（10）做圆头打磨和抛光处理，然后将所述丝头（10）用高分子材料（13）包裹，最后在所述高分子材料（13）形成的管上用缝合线（14）缝合绑扎并固定。

8.根据权利要求1—5中任一项所述的覆膜支架，其特征在于，

所述覆膜支架（1）中的所有支架段（7）由一根记忆合金丝编制而成，其中每个支架段（7）绕所述中心轴线（X）螺旋状地延伸且所述多个支架段（7）彼此相连。

9.根据权利要求8所述的覆膜支架，其特征在于，

所述覆膜支架（1）的各支架段（7）的螺距（P）在5mm—10mm之间。

10.根据权利要求8所述的覆膜支架，其特征在于，

所述覆膜支架（1）的各支架段（7）的两个相邻波杆中的第一个波杆（8.1）沿着所述中心轴线（X）的高度（L1）在4mm—6mm之间，所述两个相邻波杆中的第二个波杆（8.2）沿着所述中心轴线（X）的高度（B）在3.5mm—5.5mm之间，并且所述两个相邻波杆中的上述第一个波杆（8.1）和上述第二个波杆（8.2）之间的夹角（H）在30度—90度之间。

11.根据权利要求1—5中任一项所述的覆膜支架，其特征在于，

所述过渡段（5）和所述小直径段（4）中的支架段（7）由一根丝编制成一个螺旋支架段部分（16），而所述大直径段（6）中的支架段（7）则由另外的丝编制成一个单独支架段部分（15）。