[发明专利]一种可自动调位和聚焦的纳米膜厚测量仪无效
申请号: | 201310534878.9 | 申请日: | 2013-11-04 |
公开(公告)号: | CN103529544A | 公开(公告)日: | 2014-01-22 |
发明(设计)人: | 刘剑平;刘焕宝;杜乐瑶;聂萍 | 申请(专利权)人: | 山东理工大学 |
主分类号: | G02B21/24 | 分类号: | G02B21/24;G02B21/36;G01B11/06 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 255086 山东省淄博*** | 国省代码: | 山东;37 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 自动 聚焦 纳米 测量仪 | ||
1.一种纳米膜厚测量仪上的显微镜自动调焦的方法和显微镜自动校正装置,其特征在于:步进电机(1)通过高精度的滚珠丝杠控制上轨道左右移动,步进电机(2)通过高精度的滚珠丝杠控制下轨道前后移动,显微镜上的聚焦马达可自动的上下移动。
2.根据权利要求1所述的一种纳米膜厚测量仪上的显微镜自动调焦的方法和显微镜自动校正装置,其特征在于:步进电机通过滚珠丝杠连接来实现显微镜的调位。
3.根据权利要求1所述的一种纳米膜厚测量仪上的显微镜自动调焦的方法和显微镜自动校正装置,其特征在于:可通过控制器与步进电机(1),(2)相连,实现显微镜位置的自动校正。
4.根据权利要求1所述的一种纳米膜厚测量仪上的显微镜自动调焦的方法和显微镜自动校正装置,其特征在于:通过聚焦马达与控制器相连,实现了显微镜自动聚焦。
5.根据权利要求1所述的一种纳米膜厚测量仪上的显微镜自动调焦的方法和显微镜自动校正装置,其特征在于:合理的选择聚焦评价函数实现显微镜自动聚焦,并获得清晰的干涉图像。
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