[发明专利]柔性卷曲导电衬底上制备单原子层厚度金属薄膜的方法

权利要求书

1.一种柔性卷曲导电衬底上制备单原子层厚度金属薄膜的方法，由下述步骤组成：

将柔性卷曲导电衬底放入制备器皿1中并连接到第一电极2，以惰性金属片作第二电极3，两电极间的距离为0.2～10cm，在制备器皿1中加入含待镀金属盐的沉积溶液，沉积液的加入量至浸没柔性卷曲导电衬底，调节pH值至2.0～7.5，加热不超过90℃，接通电源，调节两电极之间电压为-10～10V，在导电衬底上沉积一层金属薄膜或重复上述步骤在导电衬底上至少沉积一层金属薄膜或在导电衬底上交替沉积至少两种金属至少两层金属薄膜；

上述的待镀金属为锰、铁、钴、镍、铜、锌、钼、钯、银、铂、金、铝、锡、铋中的任意一种，沉积溶液为含待镀金属盐的水溶液。

2.根据权利要求1所述的柔性卷曲导电衬底上制备单原子层厚度金属薄膜的方法，其特征在于:所述的惰性金属片为铂片、金片、钯片、铑片中的任意一种。

3.根据权利要求1所述的单原子层厚度金属薄膜的沉积方法，其特征在于:所述的含待镀金属盐的沉积溶液由浓度为0.1～10mM的第一组无机盐溶液和浓度为0.1～10mM的第二组无机盐溶液的组合物，第一组无机盐溶液与第二组无机盐溶液的摩尔比为1:10～1000；上述的第一组无机盐为硝酸盐、氯化物、硫酸盐、高氯酸盐中的任意一种，第二组无机盐为锂或钠或钾或镁或钙的硝酸盐、氯化物、硫酸盐、高氯酸盐中的任意一种。

4.根据权利要求1所述的柔性卷曲导电衬底上制备单原子层厚度金属薄膜的方法，其特征在于:所述的柔性卷曲导电衬底是厚度小于0.5mm的金属箔或镀有厚度为100～500nm金属薄膜的导电高分子薄膜；

上述的金属箔是镍箔、钴箔、钛箔、铝箔、紫铜箔中的任意一种；

上述厚度为100～500nm的金属薄膜为银薄膜、铜薄膜、铂薄膜、铝薄膜中的任意一种。

5.根据权利要求4所述的柔性卷曲导电衬底上制备单原子层厚度金属薄膜的方法，其特征在于:所述的导电高分子薄膜为聚噻吩薄膜、聚对亚苯薄膜、聚苯胺薄膜、聚吡咯薄膜、D-A型共轭聚合物薄膜、碳纤维-聚丙烯薄膜中的任意一种。

6.根据权利要求1所述的柔性卷曲导电衬底上制备单原子层厚度金属薄膜的方法，其特征在于:所述的不同种的单原子层厚度金属薄膜为交替镀不同的金属薄膜,该金属薄膜为不同的金属薄膜为交替镀不同的金属薄膜。