[发明专利]SAR照射区域的仿真场景模型建立方法和系统在审

专利信息
申请号: 201310538345.8 申请日: 2013-11-04
公开(公告)号: CN103631990A 公开(公告)日: 2014-03-12
发明(设计)人: 朱国庆;董纯柱;王超;殷红成 申请(专利权)人: 北京环境特性研究所
主分类号: G06F17/50 分类号: G06F17/50
代理公司: 北京市京大律师事务所 11321 代理人: 张璐;方晓明
地址: 100854*** 国省代码: 北京;11
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: sar 照射 区域 仿真 场景 模型 建立 方法 系统
【说明书】:

技术领域

发明涉及雷达技术,尤其涉及一种SAR照射区域的仿真场景模型建立方法和系统。

背景技术

SAR(Synthetic Aperture Radar,合成孔径雷达)是新计算机模拟技术支持下诞生的一种新型遥感设备,广泛应用于航空测量、航空遥感、卫星海洋观测、航天侦察、图像匹配制导等领域,其中,SAR回波仿真技术对于SAR系统的设计、验证、噪声和杂波抑制、成像处理算法研究,以及SAR成像的自动解译等具有重要作用,可以代替高成本的飞行试验,提供大量符合特定参量需求的SAR回波数据;由于SAR回波仿真效率和准确性依赖于SAR仿真场景模型的可靠性和质量,如何保证SAR仿真场景模型的可靠性和质量便成了目前研究的热点。

对SAR回波获取的DEM(Digital Elevation Model,数字高程模型)数据采用Delaunay狄洛尼三角划分进行SAR照射区域的仿真场景建模是现有技术中常用的方法,该方法虽然简单易于实现,但是进行Delaunay三角划分需要去掉DEM格网中的一些数据点,用这些不规整的点连成三角网格表现地形表面的起伏,如果SAR回波获取的DEM数据点比较稀疏,而对场景模型的使用和精度要求较高时,则在此基础上建立的模型不能准确地反映地形起伏。

一种改进的SAR照射区域的仿真场景建模方法,该方法的流程如图1所示,首先利用细分过程中,在两个或多个DEM数据点之间进行插值,以增加DEM数据,之后,对DEM数据进行Delaunay三角划分,能够对地形起伏进行准确的模拟,是目前公认的较佳的方法。

然而,上述方法即使在场景模型的使用和精度要求不高时,也会对间距较小的DEM数据点之间进行插值,造成了DEM数据冗余,在此基础上,采用冗余的DEM数据点建立的场景模型会严重降低对该模型的仿真效率。因此,必要提供一种能够采用精简的DEM数据对SAR照射区域的仿真场景建模的方法和系统。

发明内容

本发明实施例提供了一种SAR照射区域的仿真场景模型建立方法和系统,以更为精简的DEM数据建立的仿真场景模型。

根据本发明的一个方面,提供了一种SAR照射区域的仿真场景模型建立方法,包括:

对所述照射区域的DEM数据进行插值后,针对插值后的DEM数据中的每个数据点,计算该数据点的法向矢量、主曲率信息,并根据所述主曲率信息计算出该数据点的高斯曲率;并

对所述插值后的DEM数据中的每个数据点的高斯曲率进行平均,得到平均高斯曲率;

将所述插值后的DEM数据中高斯曲率小于所述平均高斯曲率的数据点剔除后得到精简的DEM数据;

对所述精简的DEM数据的点云进行三角剖分,形成非均匀三角网格模型后,对每个三角网格进行属性装配后得到所述照射区域的仿真场景模型。

进一步,所述对所述照射区域的DEM数据进行插值,具体为:

对所述照射区域的DEM数据进行分形插值:

对所述照射区域的DEM数据进行至少一次中点线性插值;并在每次中点线性插值后,对于本次插入到所述DEM数据中的插值点进行补偿;

其中,对于第k次插入到所述DEM数据中的一个平面坐标为(x0,y0)的插值点进行补偿的补偿项根据如下公式1计算得到:

Sk(L2k)H×σ×1-22H-2×N(0,1)]]>   (公式1)

其中,L为所述照射区域的DEM数据的初始网格间距;N(0,1)为白噪声随机值;分形参数H和方差σ根据如下公式2和3计算得到:

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于北京环境特性研究所,未经北京环境特性研究所许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201310538345.8/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top