[发明专利]显示面板及其制造方法、显示装置

说明书

技术领域

本发明涉及显示技术领域，特别涉及一种显示面板及其制造方法、显示装置。

背景技术

随着科技的发展和社会的进步，液晶显示器已经越来越广泛的被人们所应用，在工业生产、人民生活中起着至关重要的作用。目前，高品质液晶显示器越来越受到人们的青睐。众多显示技术领域的企业在高对比度、快速响应、低功耗等方向上投入了巨大的人力物力。

液晶显示器的对比度是指液晶显示装置在显示过程中的最大亮度与最小亮度的比值。因此，液晶显示器件的对比度既与该显示装置的处于亮态时的最大亮度相关，也和该显示装置的处于暗态时的最小亮度相关。通常，为了提高对比度，研究人员往往从提升最大亮度和降低最小亮度两个方面着手。

在现有技术中，在提升最大亮度方面，研究人员通常采用提升显示面板的开口率的手段来实现对显示装置的最大亮度的提升；在降低最小亮度方面，研究人员通常采用优化面板的对盒制程（Cell）工艺实现的手段来实现对显示装置的最小亮度的降低，例如：使用高散射系数的液晶、优化对盒制程工艺中的取向（Rubbing）工艺或优化液晶盒厚（Cell Gap）。

但是，在提升最大亮度方面，提升开口率只能在一定范围内提升显示装置的最大亮度，更重要的是，在提升开口率的过程中会产生一些新的工艺及设计问题；在降低最小亮度方面，对Cell工艺进行优化时，采用的优化方案均相对复杂。综上所述，现有技术在提高显示装置的对比度时所采用的技术手段较为复杂，不易于实现。

发明内容

本发明提供一种显示面板及其制造方法、显示装置，通过较为简单的技术手段便能有效提升显示装置的对比度。

为实现上述目的，本发明提供一种显示面板，包括阵列基板、对盒基板和电致变色结构，所述电致变色结构用于当所述显示面板呈现暗态时吸收所述显示面板的漏光。

可选地，所述电致变色结构位于所述阵列基板或所述对盒基板上。

可选地，所述对盒基板包括：第一衬底基板和彩膜，所述彩膜形成于所述第一衬底基板上，所述电致变色结构形成于所述彩膜上。

可选地，所述对盒基板还包括：平坦层，所述平坦层形成于所述电致变色结构和所述彩膜之间。

可选地，所述电致变色结构包括若干个电致变色子单元；所述彩膜包括：彩色矩阵图形和黑矩阵，所述黑矩阵限定出像素区域，所述彩色矩阵图形形成于所述像素区域中，所述电致变色子单元与所述像素区域对应设置；

为实现上述目的，本发明还提供一种显示装置,该显示装置包括：显示面板，所述显示面板采用上述的显示面板。

为实现上述目的，本发明还提供一种显示面板的制造方法，包括：形成阵列基板和对盒基板，该制造方法还包括：

形成电致变色结构，所述电致变色结构用于当所述显示面板呈现暗态时吸收所述显示面板的漏光。

可选地，所述对盒基板包括：第一衬底基板和彩膜，所述形成电致变色结构，所述电致变色结构用于当所述显示面板呈现暗态时吸收所述显示面板的漏光包括：

在所述第一衬底基板上形成彩膜；

在所述彩膜上形成所述电致变色结构。

可选地，所述在所述第一衬底基板上形成彩膜和所述在所述彩膜上形成所述电致变色结构之间还包括：

在所述彩膜上形成所述电致变色结构。

可选地，述电致变色结构包括若干个电致变色子单元，所述彩膜包括：彩色矩阵图形和黑矩阵，所述彩色矩阵图形形成于所述像素区域中；

所述在所述彩膜上形成所述电致变色结构之后还包括：

对所述电致变色结构进行构图工艺以形成若干电致变色子单元，所述电致变色子单元与所述像素区域对应设置。

本发明具有以下有益效果：

本发明提供一种显示面板及其制造方法、显示装置，该显示面板包括电致变色结构，当显示面板呈现亮态时，电致变色结构呈现透明态；当显示面板呈现暗态时，电致变色结构呈现着色态，呈现着色态的电致变色结构能吸收光线，从而最大限度的减少显示面板在暗态时的漏光，使得显示面板的最小亮度下降，进而有效提高了显示面板的对比度。

附图说明

图1为本发明实施例一提供的显示面板的结构示意图

图2a为图1中的对盒基板的结构示意图；

图2b为图2a所示对盒基板上的电致变色结构吸收漏光的示意图；

图3为本发明实施例二提供的显示面板的结构示意图；

图4为电致变色子单元与像素区域对应设置时的显示面板的结构示意图；

图5为图4所示的显示面板的制造方法的流程图；