[发明专利]一种可分散于有机溶剂的石墨烯及其水相合成方法有效
申请号: | 201310549665.3 | 申请日: | 2013-11-07 |
公开(公告)号: | CN104627985B | 公开(公告)日: | 2019-05-17 |
发明(设计)人: | 陈庆云;李维实;赵刚;赵福刚;赵帅;吴浩;王炜;刘超 | 申请(专利权)人: | 中国科学院上海有机化学研究所 |
主分类号: | C01B32/184 | 分类号: | C01B32/184 |
代理公司: | 上海一平知识产权代理有限公司 31266 | 代理人: | 祝莲君;刘真真 |
地址: | 200032 *** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 分散 有机溶剂 石墨 及其 相合 成方 | ||
1.一种可分散于有机溶剂的石墨烯材料的制备方法,所述的石墨烯材料具有如式I所示的结构:
GO—R (I);
其中,GO为经还原处理的氧化石墨烯;
R为与氧化石墨烯共价连接的取代或未取代的C1-C30烷基;其中,所述的取代指基团上的一个或多个氢原子被选自下组的取代基取代:被1-3个选自组(a)的取代基取代或未取代的C6-C20的芳基、被1-3个选自组(a)的取代基取代或未取代的C1-C20的杂芳基、卤素;
其中,(a)组取代基包括:卤素、C1-C10烷基、氰基、羟基、硝基、C3~C10环烷基、C1~C10烷氧基、氨基所述的方法包括步骤:
(1)提供式Ia化合物、或含所述式Ia化合物的分散体,所述的分散体是通过将式Ia分散在有机溶剂中形成的;
GON—R (Ia);
其中,GON为未经还原处理的氧化石墨烯;
R为与氧化石墨烯共价连接的取代或未取代的C1-C30烷基;其中,所述的取代指基团上的一个或多个氢原子被选自下组的取代基取代:被1-3个选自组(a)的取代基取代或未取代的C6-C20的芳基、被1-3个选自组(a)的取代基取代或未取代的C1-C20的杂芳基、卤素;
其中,(a)组取代基包括:卤素、C1-C10烷基、氰基、OH、硝基、C3~C10环烷基、C1~C10烷氧基、氨基;
(2)用还原剂对所述的式Ia化合物进行还原反应,得到式I化合物;
且所述的式Ia材料是通过以下步骤制备的:
(i)提供一分散有氧化石墨烯的水相分散体混合物;
(ii)在惰性溶剂中,在相转移催化剂存在下,用烷基化试剂与所述的混合物反应,得到式Ia化合物;其中,烷基化试剂与氧化石墨烯的质量比为烷基化试剂:氧化石墨烯=0.1-100:1;
其中,所述的烷基化试剂是如下式II所示的化合物:
R-X (II)
其中,X选自下组:Br;
R为取代或未取代的C1~C30的烷基;其中,所述的取代指基团上的一个或多个氢原子被选自下组的取代基取代:取代或未取代的C6-C20的芳基、取代或未取代的C1-C20的杂芳基、卤素。
2.如权利要求1所述的方法,其特征在于,所述的有机溶剂选自下组:卤代烃、芳烃溶剂、酮类溶剂、醚类溶剂,或其组合。
3.如权利要求1所述的方法,其特征在于,所述的步骤(2)中,还原剂选自下组:水合肼、甲基肼、氢碘酸、对甲苯磺酰肼、硼氢化钠、四氢铝锂、VC、芳基肼、芳香胺,或其组合。
4.如权利要求1所述的方法,其特征在于,所述的步骤(2)中,反应物的质量比为还原剂:式Ia化合物=2-40:1。
5.如权利要求1所述的方法,其特征在于,所述的烷基化试剂是CF3(CF2)5CH2CH2Br。
6.如权利要求1所述的方法,其特征在于,所述的相转移催化剂选自下组:聚醚、环状冠醚、季铵盐、叔胺、吡啶、季铵碱、季膦盐,或其组合。
7.如权利要求6所述的方法,其特征在于,所述的步骤(ii)在碱存在下进行。
8.如权利要求7所述的方法,其特征在于,所述的碱选自下组:氢氧化钾、氢氧化钠、氢氧化锂、氢氧化钡、氢氧化锶、氢氧化铯、四乙基氢氧化铵,或其组合。
9.如权利要求7所述的方法,其特征在于,所述反应体系中,各物质的质量比依次为:烷基化试剂:碱:相转移催化剂:氧化石墨烯=0.1-100:1-10:0.1-10:1。
10.如权利要求1所述的方法,其特征在于,在所述步骤(ii)反应完毕后,对含有式Ia化合物的产物混合物进行过滤和/或洗涤,得到经纯化的式Ia化合物;和/或
在所述步骤(2)反应完毕后,对含有式I化合物的产物混合物进行过滤和/或洗涤,得到经纯化的式I化合物。
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