[发明专利]一种机械式自转MOCVD副衬托盘无效
申请号: | 201310552093.4 | 申请日: | 2013-11-07 |
公开(公告)号: | CN103556130A | 公开(公告)日: | 2014-02-05 |
发明(设计)人: | 金英镐;金相模 | 申请(专利权)人: | 北京希睿思科技有限公司 |
主分类号: | C23C16/458 | 分类号: | C23C16/458 |
代理公司: | 北京远大卓悦知识产权代理事务所(普通合伙) 11369 | 代理人: | 史霞 |
地址: | 100102 北京市朝阳*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 机械式 自转 mocvd 衬托 | ||
1.一种机械式自转MOCVD副衬托盘,其特征在于,包括:
衬底置放盘,其上置放有待被气相沉积的衬底;
衬底齿轮,其固接在衬底置放盘的下方;
第一驱动机构,其驱动所述衬底齿轮沿第一方向转动,衬底齿轮带动所述衬底置放盘转动。
2.如权利要求1所述的机械式自转MOCVD副衬托盘,其特征在于,还包括:
抽气装置,其在所述衬底齿轮的下方执行抽气操作。
3.如权利要求2所述的机械式自转MOCVD副衬托盘,其特征在于,还包括:
转盘,其由第二驱动装置驱动沿第二方向转动,所述第二方向与第一方向相反;
所述转盘上设置有所述衬底置放盘和所述第一驱动机构,所述衬底置放盘随着所述转盘燕第二方向转动,又在第一驱动机构的作用下相对于所述转盘沿第一方向转动。
4.如权利要求3所述的机械式自转MOCVD副衬托盘,其特征在于,所述第一驱动机构为中心齿轮,其设置在所述转盘的中心上方,所述中心齿轮与所述衬底齿轮相啮合,所述中心齿轮相对于所述转盘转动。
5.如权利要求4所述的机械式自转MOCVD副衬托盘,其特征在于,所述衬底置放盘有多个,均匀分布在所述转盘的边缘部分,每个衬底置放盘下方的衬底齿轮均与位于转盘中心上方的中心齿轮啮合,中心齿轮转动带动所有衬底置放盘转动。
6.如权利要求5所述的机械式自转MOCVD副衬托盘,其特征在于,还包括:
罩盖,其覆盖在转盘的上方,且罩盖上开口,衬底置放盘从开口处伸出。
7.如权利要求5或6所述的机械式自转MOCVD副衬托盘,其特征在于,每一个衬底置放盘中包括多个衬底置放台,每个衬底置放台上置放一个衬底。
8.如权利要求7所述的机械式自转MOCVD副衬托盘,其特征在于,还包括:
壳体,所述转盘设置在壳体的底部,衬底置放盘也位于壳体内,壳体的侧壁具有中空夹层,且侧壁的高于衬底放置盘的位置处设置有多个与中空夹层贯通的气孔。
9.如权利要求8所述的机械式自转MOCVD副衬托盘,其特征在于,所述抽气装置在壳体内执行抽气操作。
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C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的