[发明专利]成膜装置无效
| 申请号： | 201310552626.9 | 申请日： | 2013-11-08 |
| 公开（公告）号： | CN103805947A | 公开（公告）日： | 2014-05-21 |
| 发明（设计）人： | 久保田绅治;森田治 | 申请（专利权）人： | 东京毅力科创株式会社 |
| 主分类号： | C23C14/24 | 分类号： | C23C14/24;H05B33/10;H05B33/14 |
| 代理公司： | 北京尚诚知识产权代理有限公司 11322 | 代理人： | 龙淳 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 装置 | ||
1.一种成膜装置，其特征在于，具备：
处理容器，其区划出用于处理基板的处理室；
搬运机构，其在所述处理室中，在沿着规定方向延伸的搬运路径上搬运所述基板；
多个蒸镀头，其沿着所述规定方向配置于所述处理室，向由所述搬运机构在所述搬运路径上搬运的所述基板的成膜面喷射含有蒸镀材料的蒸气的气体；
分隔壁，其以隔离各所述蒸镀头的方式立设于所述处理室，使所述搬运路径插通，并且将所述处理室分隔成收纳各所述蒸镀头的多个收纳室；和
排气机构，其经由设置于各所述收纳室的排气口与各所述收纳室连接，对所述蒸镀头的周围进行排气。
2.如权利要求1所述的成膜装置，其特征在于：
所述排气口，在各所述收纳室中，从与所述搬运路径垂直的方向看，设置在与所述搬运路径不重叠的位置。
3.如权利要求1或2所述的成膜装置，其特征在于：
所述排气口，在各所述收纳室中，从与所述搬运路径垂直的方向看，设置在沿着与所述规定方向交叉的方向夹着所述蒸镀头的位置。
4.如权利要求1～3中任一项所述的成膜装置，其特征在于：
在从所述蒸镀头喷射含有蒸镀材料的蒸气的气体的状态下，将各所述收纳室的压力设定为对应于分子流的压力范围或对应于中间流的压力范围。
5.如权利要求1～4中任一项所述的成膜装置，其特征在于：
在从所述蒸镀头喷射含有蒸镀材料的蒸气的气体的状态下，将各所述收纳室的压力设定为3×10-3Pa以下。
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