[发明专利]一种具有自清洁功能的黑硅材料的制备方法有效

专利信息
申请号: 201310553963.X 申请日: 2013-11-08
公开(公告)号: CN103594555A 公开(公告)日: 2014-02-19
发明(设计)人: 边捷;袁长胜 申请(专利权)人: 无锡英普林纳米科技有限公司
主分类号: H01L31/18 分类号: H01L31/18;C23C14/04;C23C14/30;C23F1/02;C23F1/12
代理公司: 南京知识律师事务所 32207 代理人: 李媛媛
地址: 214192 *** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 一种 具有 清洁 功能 材料 制备 方法
【权利要求书】:

1.一种具有自清洁功能的黑硅材料的制备方法,其特征在于,该方法包括以下步骤:

(1)利用匀胶机在硅衬底上均匀涂覆一层聚甲基丙烯酸甲酯;

(2)利用匀胶机在聚甲基丙烯酸甲酯层上均匀涂覆一层紫外纳米压印胶;

(3)利用紫外纳米压印复合软模板进行紫外纳米压印得到固化的紫外纳米压印胶纳米阵列结构;

(4)再利用反应离子刻蚀穿紫外纳米压印胶纳米阵列结构的残余层和下层的聚甲基丙烯酸甲酯暴露出硅衬底;

(5)利用电子束蒸发镀膜仪器在刻蚀后的样品表面镀一层金属铬,并用举离工艺得到金属铬纳米阵列结构;

(6)再以金属铬纳米阵列结构为掩膜,利用三氟甲烷、四氟化碳和氧气的混合气体反应离子刻蚀得到尖劈硅纳米结构即黑硅材料;

(7)对刻蚀完成的黑硅材料进行氧气等离子的处理,并接着用氟硅烷试剂进行表面化学处理,即得到具有自清洁功能的黑硅材料。

2.根据权利要求1所述的一种具有自清洁功能的黑硅材料的制备方法,其特征在于,所述硅衬底为(100)、(110)或者(111)方向的厚度不限的抛光硅片,或者为在衬底上生长的光滑的无定向硅或非晶硅表面。

3.根据权利要求1或2所述的一种具有自清洁功能的黑硅材料的制备方法,其特征在于,所述紫外纳米压印复合软模板是由柔性硅橡胶材料为柔性衬底与高硬度聚合物材料作为刚性结构层构成。

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