[发明专利]用于椎间盘仿生培养的均匀施力装置有效

专利信息
申请号: 201310555243.7 申请日: 2013-11-11
公开(公告)号: CN103550016A 公开(公告)日: 2014-02-05
发明(设计)人: 周强;甘翼搏;李培;徐源;王浩明;李松涛;李瀚卿;李玉东;宋磊 申请(专利权)人: 中国人民解放军第三军医大学第一附属医院
主分类号: A61F2/44 分类号: A61F2/44
代理公司: 重庆志合专利事务所 50210 代理人: 胡荣珲
地址: 400038 重*** 国省代码: 重庆;85
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摘要:
搜索关键词: 用于 椎间盘 仿生 培养 均匀 施力 装置
【权利要求书】:

1.一种用于椎间盘仿生培养的均匀施力装置,其特征在于:包括用于支承椎间盘的装置和两个压力传递装置,所述用于支承椎间盘的装置的上部为圆筒,下部为支承座,支承座上设有若干轴向通孔与圆筒的筒腔贯通,两个压力传递装置分上下放置在圆筒的筒腔内,上、下压力传递装置之间的间隙为放置椎间盘的位置,上、下压力传递装置分别包括透水的柔性材料制作的封口袋,封口袋内装有若干由硬质材料制作的圆球体,各圆球体的直径为0.3~1.5mm。

2.根据权利要求1所述的用于椎间盘仿生培养的均匀施力装置,其特征在于:所述支承座与下压力传递装置之间设有透水的柔性材料制作的透液层。

3.根据权利要求1所述的用于椎间盘仿生培养的均匀施力装置,其特征在于:所述封口袋的材料为无纺布。

4.根据权利要求1所述的用于椎间盘仿生培养的均匀施力装置,其特征在于:所述圆球体为钢球。

5.根据权利要求1所述的用于椎间盘仿生培养的均匀施力装置,其特征在于:所述上、下压力传递装置均为圆柱形,下压力传递装置的直径等于圆筒的内径,上压力传递装置的直径大于下压力传递装置的直径。

6.根据权利要求1所述的用于椎间盘仿生培养的均匀施力装置,其特征在于:所述支承座外周面为阶梯形,支承座的大径端与圆筒连接,所述若干轴向通孔设于支承座中径端的环形端面上,各轴向通孔贯穿支承座的大径端、中径端,支承座的小径端为实心。

7.根据权利要求1或6所述的用于椎间盘仿生培养的均匀施力装置,其特征在于:所述圆筒、支承座成型为一体。

8.根据权利要求1或6所述的用于椎间盘仿生培养的均匀施力装置,其特征在于:所述圆筒、支承座分别成型,支承座上设有用于对圆筒径向定位的阶梯,圆筒径向定位于该阶梯。

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