[发明专利]一类基于含氟咔唑共轭聚合物、其制备方法及其在有机光电子器件中的应用在审
| 申请号： | 201310560171.5 | 申请日： | 2013-11-13 |
| 公开（公告）号： | CN104629006A | 公开（公告）日： | 2015-05-20 |
| 发明（设计）人： | 李翠红;危和狄;薄志山 | 申请（专利权）人： | 北京师范大学 |
| 主分类号： | C08G61/12 | 分类号： | C08G61/12;H01L51/54 |
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| 地址： | 100875 北京市海淀区*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一类 基于 含氟咔唑 共轭 聚合物 制备 方法 及其 有机 光电子 器件 中的 应用 | ||
【权利要求书】：
1.一类基于含氟咔唑共轭聚合物、其制备方法及其在有机光电子器件中的应用。
2.权利要求1所述材料双氟咔唑双硼酸酯的结构。
3.权利要求1所述材料含氟咔唑共轭聚合物的方法，主要步骤是：
氮气气氛下，以甲苯、四氢呋喃和NaHCO3水溶液为溶剂，将4-(5-溴噻吩-2-基)-7-(5-(5-己基噻吩-2-基)噻吩-2-基)苯并噻二唑和2，7-二(4，4，5，5-四甲基-1，3，2-二氧杂硼烷-2-基)-3，6-二氟-N-辛基咔唑，在四(三苯基膦)钯催化下体系在氮气气氛下搅拌回流反应3天。加入苯硼酸反复充脱氮气继续回流4个小时，加入溴苯反复充脱氮气继续回流6个小时，然后冷却体系，加入水和氯仿；用分液漏斗分出有机层，用丙酮沉淀，然后将沉淀在溶解在少量的氯仿中，继续在丙酮中沉淀，反复该操作3次，最后在高真空下干燥得到聚合物。
4.权利要求1所述共轭聚合物在光电子器件中的应用。
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