[发明专利]有机电致发光器件及其制备方法

说明书

技术领域

本发明涉及光电子器件领域，尤其涉及有机电致发光器件及其制备方法。

背景技术

有机电致发光器件（OLED）是基于有机材料的一种电流型半导体发光器件。其典型结构是在氧化铟锡（ITO）玻璃上制作一层几十纳米厚的有机发光材料作发光层，发光层上方有一层低功函数的金属电极。当电极上加有电压时，发光层就产生光辐射。

OLED器件具有主动发光、发光效率高、功耗低、轻、薄、无视角限制等优点，被业内人士认为是最有可能在未来的照明和显示器件市场上占据霸主地位的新一代器件。作为一项崭新的照明和显示技术，OLED技术在过去的十多年里发展迅猛，取得了巨大的成就。由于全球越来越多的照明和显示厂家纷纷投入研发，大大的推动了OLED的产业化进程。

柔性产品是有机电致发光器件的发展趋势，但目前普遍存在寿命短的问题，而封装的好坏直接影响器件的寿命。为达封装的目的，有机电致发光器件常设有具有钝化保护的阻挡层。以无机材料(例如为氮化硅)作为有机电致发光器件的阻挡层的技术已相当成熟且广泛应用于各式显示器中。然而，在制作柔性的有机发光装置（亦称为可挠式有机发光装置）的制造工艺中，由于无机材料的可挠性不佳，以致有机发光装置在经过弯曲之后，阻挡层会产生裂缝。如此一来，水汽会经由裂缝渗入而影响薄膜晶体管的电性。若以有机材料作为钝化保护层，则可拥有较佳的可挠性。然而，有机材料的阻水能力较无机材料差，因此水汽容易渗入有机发光装置而影响其电性。因此，如何提升柔性的有机发光装置的阻挡层的可靠性实为目前亟欲解决的议题之一。

发明内容

本发明的目的在于解决上述现有技术存在的问题和不足，提供一种有机电致发光器件，该有机电致发光器件为层状结构，该层状结构依次包括：阳极导电基板、空穴注入层、空穴传输层、发光层、电子传输层、电子注入层及阴极层，所述阴极层上还设有阻挡层，所述阻挡层由依次层叠的第一有机阻挡层、第一无机阻挡层、第二有机阻挡层和第二无机阻挡层组成；其中：

所述第一、第二有机阻挡层的材质均为氮氧硅化合物膜，所述氮氧硅化合物的化学式为SiOxNy，其中，x表示含氧量，0.01<x<2，y表示含氮量，0.01<y<1.3；

所述第一无机阻挡层的材质为由硼化物和氮化物组成的混合物；其中，所述硼化物为AlB₂、LaB₆、VB₂、NbB、TiB₂或MoB；所述氮化物为Si₃N₄、AlN、BN、HfN、TaN或TiN；所述硼化物占所述第一无机阻挡层的重量百分比为60～80wt%；所述氮化物占所述第一无机阻挡层的重量百分比为20～40wt%；

所述第二无机阻挡层的材质为由氮化物和碳化物组成的混合物；其中，所述氮化物为Si₃N₄、AlN、BN、HfN、TaN或TiN；所述碳化物为SiC、WC、TaC、BC、TiC或HfC；所述氮化物占所述第二无机阻挡层的重量百分比为80～90wt%；所述碳化物占所述第二无机阻挡层的重量百分比为10～20wt%。

所述氮氧硅化合物膜是使用六甲基二硅胺、NH₃和O₂作为原材料并通过等离子增强化学气相沉积方法而制得的。

所述氮氧硅化合物膜的厚度为150～200nm。

所述第一无机阻挡层和所述第二无机阻挡层的厚度为100nm～200nm。

所述空穴注入层的材质为由MoO₃和N,N'-二苯基-N,N'-二(1-萘基)-1,1'-联苯-4,4'-二胺相掺杂得的混合物，其中，MoO₃与N,N'-二苯基-N,N'-二(1-萘基)-1,1'-联苯-4,4'-二胺的重量百分比为0.3:1；

所述空穴传输层的材质为4,4',4''-三(咔唑-9-基)三苯胺；

所述发光层的材质为由三(2-苯基吡啶)合铱和1,3,5-三(1-苯基-1H-苯并咪唑-2-基)苯相掺杂得的混合物，其中，三(2-苯基吡啶)合铱与1,3,5-三(1-苯基-1H-苯并咪唑-2-基)苯的重量百分比为0.05:1；

所述电子传输层的材质为4,7-二苯基-1,10-菲罗啉；