[发明专利]聚合物微米/亚微米线阵列结构的制备方法

说明书

技术领域

本发明涉及一种亚微米和微米微结构材料的制备方法，特别是一种聚合物微米/亚微米线阵列结构的制备技术。

背景技术

聚合物微米/亚微米线阵列结构具有广泛的应用。例如，其阵列的不同排布可以实现光的散射和调控；导电的聚合物微米/亚微米线阵列可以作为电极阵列；聚合物微米/亚微米线阵列也可以进一步作为模板制备其它材料的微结构转阵列。因此，聚合物微米/亚微米线阵列微结构的制备方法的研发具有重要的意义。

发明内容

本发明的目的是提供一种制备成本低的聚合物微米/亚微米线阵列结构的制备技术。

为了实现上述发明目的，本发明采用的技术方案如下：

聚合物微米/亚微米线阵列结构的制备技术的制备方法，包括以下步骤：

（1）根据专利ZL200710134575.2的方法获得聚合物I（聚苯乙烯、聚甲基丙烯酸甲脂、松香等可在常温下被有机溶剂溶解的聚合物）填充石英纤维空隙的复合结构；

（2）将上述结构置于HF酸溶液中腐蚀去除石英纤维，形成存在中空微结构阵列的聚合物I微结构；

（3）在上述中空微结构阵列中填充聚合物II（聚苯乙烯、聚甲基丙烯酸甲脂、聚二甲基硅氧烷等）；

（4）去除聚合物I，获得聚合物II的微米/亚微米线阵列结构。

本发明与现有技术相比，其显著优点是成本低廉，无需大型仪器，工艺简单可靠。本发明方法新颖，获得的微结构可在光电等领域获得应用。

附图说明

图1是聚合物微米/亚微米线阵列结构的制备方法的示意图。

具体实施方式

下面对本发明作进一步详细的描述。

实施例中聚合物填充石英纤维空隙的复合结构根据专利ZL200710134575.2的方法获得。

实施例1：将松香填充石英纤维空隙的复合结构置于HF酸溶液中腐蚀去除石英纤维，形成存在中空微结构阵列的松香微结构；上述中空微结构阵列中填充聚二甲基硅氧烷，固化后用乙醇溶解去除松香，获得聚二甲基硅氧烷的微米/亚微米线阵列结构。

实施例2：将聚苯乙烯填充石英纤维空隙的复合结构置于HF酸溶液中腐蚀去除石英纤维，形成存在中空微结构阵列的聚苯乙烯微结构；上述中空微结构阵列中填充聚二甲基硅氧烷，固化后用三氯甲烷溶解去除聚苯乙烯，获得聚二甲基硅氧烷的微米/亚微米线阵列结构。

实施例3：将松香填充石英纤维空隙的复合结构置于HF酸溶液中腐蚀去除石英纤维，形成存在中空微结构阵列的松香微结构；上述中空微结构阵列中填充聚苯乙烯，固化后用乙醇溶解去除松香，获得聚苯乙烯的微米/亚微米线阵列结构。

实施例4：将聚甲基丙烯酸甲酯填充石英纤维空隙的复合结构置于HF酸溶液中腐蚀去除石英纤维，形成存在中空微结构阵列的聚甲基丙烯酸甲酯微结构；上述中空微结构阵列中填充聚二甲基硅氧烷，固化后用乙醇溶解去除松香，获得聚二甲基硅氧烷的微米/亚微米线阵列结构。