[发明专利]一种相移可调的光纤布拉格光栅器件及其制作方法

权利要求书

1.一种相移可调的光纤布拉格光栅器件，包括纤芯和包层，其特征在于，所述纤芯上形成有非相移的光纤布拉格光栅，所述纤芯上具有一可填充流体介质的腔体，所述腔体将所述光纤布拉格光栅分为两部分，且腔体具有与外部连通的通道。

2.根据权利要求1所述的光纤布拉格光栅器件，其特征在于，所述腔体为球形腔体。

3.根据权利要求1所述的光纤布拉格光栅器件，其特征在于，所述通道为两个通道，分别连通所述腔体。

4.一种相移可调的光纤布拉格光栅器件的制作方法，其特征在于，包括以下步骤：

步骤1：通过非相移的相位模板在光纤的纤芯上刻写出非相移的光纤布拉格光栅；

步骤2：沿着光纤布拉格光栅将光纤切断成两部分，在其中一根断光纤的端面中心烧蚀出一小孔，然后将带有小孔的光纤端面和另一根断光纤的端面进行放电熔接，在光纤内部形成一个封闭的球形腔体；

步骤3：从形成有封闭的球形腔体的光纤的上下表面依次加工出两通道，所述两通道与所述球形腔体相连，使所述球形腔体与外界连通。

5.根据权利要求4所述的相移可调的光纤布拉格光栅器件的制作方法，其特征在于，所述步骤3后还包括：将光纤布拉格光栅器件浸没在流体介质中，所述流体介质完全填满球形腔体即可获得稳定的相移光纤布拉格光栅；更换球形腔体中不同折射率的流体介质能准确地调节光栅的相移量。

6.根据权利要求4所述的相移可调的光纤布拉格光栅器件的制作方法，其特征在于，所述步骤1中使用波长为193nm准分子激光进行刻写所述光纤布拉格光栅。

7.根据权利要求4所述的相移可调的光纤布拉格光栅器件的制作方法，其特征在于，所述步骤2中使用光纤切割刀在光纤布拉格光栅的中心位置进行切割光纤。

8.根据权利要求4所述的相移可调的光纤布拉格光栅器件的制作方法，其特征在于，所述步骤3中的通道使用飞秒激光微加工技术进行加工。

9.根据权利要求4所述的相移可调的光纤布拉格光栅器件的制作方法，其特征在于，所述小孔为直径小于10微米、深度小于10微米的小孔。

10.根据权利要求4所述的相移可调的光纤布拉格光栅器件的制作方法，其特征在于，所述光纤熔接机进行放电熔接的放电电流为16.3mA、放电时间为2s。