[发明专利]彩膜基板及其制备方法

说明书

技术领域

本发明涉及液晶显示技术领域，特别是涉及一种彩膜基板及其制备方法。

背景技术

液晶显示器的显示面板包括对盒设置的彩膜基板和阵列基板，以及填充在彩膜基板和阵列基板之间的液晶分子层。其中，彩膜基板（Color Filter，简称CF）用于实现彩色画面的显示。

现有技术中，结合图1-图3所示，液晶显示器的彩膜基板包括衬底基板10，在衬底基板10的上底面上形成有黑矩阵（Black Matrix，简称BM）20，以及由黑矩阵20限定的多个亚像素区域30，其中，亚像素区域30与阵列基板上的像素单元对应。亚像素区域30内设置有透射不同颜色光线的带通滤光层，通常是红色滤光层40（R）、绿色滤光层50（G）或蓝色滤光层60（B）。在滤光层之上还设置有平坦层（或保护层）90，在平坦层90上对应黑矩阵的区域内设置有隔垫物（Photo Spacer，简称PS）70，通常为柱状，起到支撑作用，用于在彩膜基板和阵列基板之间形成一定的空间，填充液晶分子层。在衬底基板10的下底面上还可以形成一透明导电层80，起到电磁屏蔽的作用。

相应地，彩膜基板的制备流程为：经过曝光显影工艺，在衬底基板10上依次形成黑矩阵20、红色滤光层40、绿色滤光层50、蓝色滤光层60和隔垫物70，至少需要5次构图工艺才能完成彩膜基板的制备，不仅工艺繁琐，而且成本较高。同时，在黑矩阵20上形成带通滤光膜层，经过曝光显影工艺，形成带通滤光层的图案时，容易导致带通滤光层搭接在黑矩阵20上，形成角断差区域A，如图3所示，而形成在该区域A上方的隔垫物70会由于基底不平坦而出现变形。

发明内容

本发明提供一种彩膜基板及其制备方法，用以解决现有技术中彩膜基板的制备工艺繁琐，成本较高的问题。

为解决上述技术问题，本发明提供一种彩膜基板的制备方法，包括在一衬底基板上形成黑矩阵、多个带通滤光层和多个隔垫物的步骤，所述黑矩阵限定多个亚像素区域，所述带通滤光层位于对应的亚像素区域内，透射特定颜色的光线，所述隔垫物位于黑矩阵所在的区域内，其中，

形成透射特定颜色光线的带通滤光层的步骤包括：

在衬底基板上形成透射所述特定颜色光线的带通滤光膜层；

图形化所述带通滤光膜层，形成位于对应亚像素区域的带通滤光层图案和对应黑矩阵所在区域的亚滤光层图案，并在所述亚滤光层的上表面形成多个凸起结构，所述凸起结构对应隔垫物所在的区域；

透射不同颜色光线的多个亚滤光层叠层形成所述黑矩阵；透射不同颜色光线的凸起结构叠层形成所述隔垫物。

本发明还提供一种彩膜基板，包括衬底基板和形成在衬底基板上的黑矩阵和多个隔垫物，所述黑矩阵限定多个亚像素区域，所述隔垫物位于黑矩阵所在的区域内，其特征在于，还包括多个图形化的带通滤光膜层，所述带通滤光膜层透射特定颜色的光线；

透射特定颜色光线的带通滤光膜层包括：

带通滤光层，位于对应的亚像素区域内；

亚滤光层，对应黑矩阵所在区域；

凸起结构，形成在亚滤光层的上表面；

透射不同颜色光线的多个亚滤光层叠层形成所述黑矩阵；透射不同颜色光线的凸起结构叠层形成所述隔垫物。

本发明的上述技术方案的有益效果如下：

上述技术方案中，通过制备带通滤光层的工艺同时形成彩膜基板的黑矩阵和隔垫物，大大简化了彩膜基板的制备工艺，降低了生产成本。同时，由于带通滤光层和黑矩阵同时形成，带通滤光层不再搭接在黑矩阵上，从而不会出现角断差区域，形成在黑矩阵上的隔垫物也不会由于基底不平坦而出现变形问题。本技术方案中的隔垫物是由各带通滤光层的凸起结构逐渐层叠形成，每个带通滤光层都形成凸起结构，隔垫物的高度逐步增加，这样形成的隔垫物工艺上实现更容易，且形成的隔垫物的支撑效果也更好。

附图说明

为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动性的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1表示现有技术中彩膜基板的结构示意图；

图2表示图1沿B-B方向的剖视图；

图3表示图1沿C-C方向的剖视图；

图4-图6表示本发明实施例中彩膜基板制备过程示意图；

图7表示图6沿B-B方向的剖视图；

图8表示图6沿C-C方向的剖视图。

具体实施方式