[发明专利]一种制备金刚石薄膜的简单装置

说明书

技术领域

本发明涉及一种制备金刚石薄膜的简单装置。 

背景技术

金刚石薄膜具有很高的硬度、较好的热导性，耐磨损性，极佳的化学惰性，和从远红外区到深紫外区完全透明等优点。金刚石薄膜在焊接刀具、大功率激光器、半导体以及X射线窗口等领域有着广泛的前景。 

现有用于制备金刚石薄膜的装置，其结构一般比较复杂，生产成本高。故此，现有用于制备金刚石薄膜的装置有待于进一步完善。 

发明内容

本发明的目的是为了克服现有技术中的不足之处，提供一种结构简单，制作方便，生产成本低，用于制备金刚石薄膜的简单装置。 

为了达到上述目的，本发明采用以下方案： 

一种制备金刚石薄膜的简单装置，包括有反应室，其特征在于：在所述的反应室下方设有气体入口，在所述反应室内与所述气体入口对应的位置上设有阴极，在所述的阴极上设有多个透气孔，在所述阴极上方设有水冷阳极，基片设置在水冷阳极上，所述的水冷阳极与阴极通过导线相连接。 

如上所述的一种制备金刚石薄膜的简单装置，其特征在于在所述 的阴极上内设有水冷容腔，在所述的阴极设有与所述水冷容器相连接的进水口。 

如上所述的一种制备金刚石薄膜的简单装置，其特征在于所述水冷阳极与阴极通过导线连接有电源。 

如上所述的一种制备金刚石薄膜的简单装置，其特征在于所述水冷阳极包括有阳极本体，在所述的阳极本体上设有水冷进口。 

如上所述的一种制备金刚石薄膜的简单装置，其特征在于所述水冷阳极与阴极之间的距离为2cm。 

综上所述，本发明的有益效果： 

本发明工艺方法简单，制作方便，生产成本相对较低。 

附图说明

图1为本发明的示意图。 

具体实施方式

下面结合附图说明和具体实施方式对本发明做进一步描述： 

如图1所示，本发明一种制备金刚石薄膜的简单装置，包括有反应室1，在所述的反应室1下方设有气体入口2，在所述反应室1内与所述气体入口2对应的位置上设有阴极3，在所述的阴极3上设有多个透气孔4，在所述阴极3上方设有水冷阳极5，基片6设置在水冷阳极5上。 

本发明中所述水冷阳极5与阴极3通过导线7连接有电源8。 

本发明中在所述的阴极3上内设有水冷容腔，在所述的阴极3设有与所述水冷容器相连接的进水口9。 

本发明中所述水冷阳极5包括有阳极本体51，在所述的阳极本体51上设有水冷进口52。所述水冷阳极5与阴极之间的距离为2cm。 

本发明装置使用过程中压力约28KPa的反应气体CH₄+H₂通过阴极3中的进入反应室1，水冷阳极5位于阴极3上方，基片6安装在水冷阳极上，水冷阳极与阴极的距离为2cm，CH₄/H₂比率由0.3%变到4%，但流量固定在20sccm，所使用的典型放电条件为1KV和0.4nm/cm²,基片6温度上升到800℃，其温度可通过改变通入阳极的冷却水的流量来改变。 

采用本发明装置制备的金刚石薄膜，其面间距、点阵常数、维氏硬度与自然金刚石对应值相符。 

以上显示和描述了本发明的基本原理和主要特征和本发明的优点。本行业的技术人员应该了解，本发明不受上述实施例的限制，上述实施例和说明书中描述的只是说明本发明的原理，在不脱离本发明精神和范围的前提下，本发明还会有各种变化和改进，这些变化和改进都落入要求保护的本发明范围内。本发明要求保护范围由所附的权利要求书及其等效物界定。