[发明专利]毛巾织物还原染料湿短蒸工艺在审

专利信息
申请号: 201310568870.4 申请日: 2013-11-15
公开(公告)号: CN104631014A 公开(公告)日: 2015-05-20
发明(设计)人: 董金翠 申请(专利权)人: 青岛鑫益发工贸有限公司
主分类号: D06B21/00 分类号: D06B21/00
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 266400 山东*** 国省代码: 山东;37
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摘要:
搜索关键词: 毛巾 织物 还原染料 湿短蒸 工艺
【说明书】:

技术领域

发明涉及一种毛巾织物还原染料湿短蒸工艺,属于织物技术领域。

背景技术

染整加工属于高耗能、高耗水、高排污的生产方式,尤其采用分散/活性染料二浴法染T/C、T/R等混纺织物时影响十分显著,在保证染色质量的条件下,如何降低能耗、减少排污是大家共同关心的问题,传统分散染料染色后清洗工艺有还原清洗、高温皂洗等,不仅工艺周期长、耗能高,而且对环境污染较大,应用清洗剂Cyclanon ECO在不改变染浴酸碱性条件下能直接进行还原清洗,达到传统工艺的染色效果(如干、湿摩擦牢度,耐皂洗牢度等指标),节省时间,提高生产效率且生态环保。

发明内容

本发明的目的在于提供一种毛巾织物还原染料湿短蒸工艺,以便更好地进行环保处理。

为了实现上述目的,本发明的技术方案如下: 

一种毛巾织物还原染料湿短蒸工艺,具体包括以下步骤:

(1)常规还原染料悬浮体轧染工艺:染液准备——半制品浸轧还原染料悬浮体染液——红外线预烘——热风预烘——烘简烘燥——落布(冷却);

(2)还原染料湿短蒸轧染工艺:染液准备——半制品浸轧还原染料悬浮体染液——液封口浸轧还原液——汽蒸——冷流水冲洗(2~3 格) 氧化1格——透风——热洗1格——皂洗l格——皂煮1 格——热洗2格——烘干——落布(冷却);

还原染料湿短蒸轧染工艺,织物不经打底烘干,毛巾织物直接浸轧还原染料悬浮体染液,进入液封口浸渍还原液汽蒸还原上染,这样虽浪费部分染料,但可减少打底烘干造成的色差、泳移、布面发花等疵病且降低了能源消耗;

还原染料不溶于水,其分子结构中含有羰基,在碱性介质中能被还原成隐色体纳盐,而上染在棉纤维上的还原染料的隐色体钠盐经氧化后,恢复成不溶状的染料而固着于纤维上;还原染料悬浮体湿蒸轧染工艺分为染料的还原、染料上染、染料的氧化、皂洗后处理四个阶段;为了保证染色质量,必须进行充分的皂洗;其目的为:

(1)去除浮色,由于一些附在纤维表面的染料隐色体经过氧化后,形成不溶性的染料沉积在纤维表面形成“浮色”,必须经过皂洗才能去除;

(2)使染成品获得真实的色光,提高染成品的色牢度,皂煮能改变纤维内染料的色光效果,许多还原染料只能通过皂煮才能充分发色;棉纤维染色后充分皂煮,在纤维腔中形成染料晶体,光密度增加,色光浓艳;棉纤维染色后经过皂煮,染料的定向发生变化,取向度增加,二色性发生变化。

该发明的有益效果在于:本发明技术可以较好地取得效果,且节能环保,方便使用。

具体实施方式

下面结合实施例对本发明的具体实施方式进行描述,以便更好的理解本发明。

实施例

一种毛巾织物还原染料湿短蒸工艺,具体包括以下步骤:

(1)常规还原染料悬浮体轧染工艺:染液准备——半制品浸轧还原染料悬浮体染液——红外线预烘——热风预烘——烘简烘燥——落布(冷却);

(2)还原染料湿短蒸轧染工艺:染液准备——半制品浸轧还原染料悬浮体染液——液封口浸轧还原液——汽蒸——冷流水冲洗(2~3 格) 氧化1格——透风——热洗1格——皂洗l格——皂煮1 格——热洗2格——烘干——落布(冷却);

还原染料湿短蒸轧染工艺,织物不经打底烘干,毛巾织物直接浸轧还原染料悬浮体染液,进入液封口浸渍还原液汽蒸还原上染,这样虽浪费部分染料,但可减少打底烘干造成的色差、泳移、布面发花等疵病且降低了能源消耗;

还原染料不溶于水,其分子结构中含有羰基,在碱性介质中能被还原成隐色体纳盐而上染在棉纤维上的还原染料的隐色体钠盐经氧化后,恢复成不溶状的染料而固着于纤维上;还原染料悬浮体湿蒸轧染工艺分为染料的还原、染料上染、染料的氧化、皂洗后处理四个阶段;为了保证染色质量,必须进行充分的皂洗;其目的为:

(1)去除浮色,由于一些附在纤维表面的染料隐色体经过氧化后,形成不溶性的染料沉积在纤维表面形成“浮色”,必须经过皂洗才能去除;

(2)使染成品获得真实的色光,提高染成品的色牢度,皂煮能改变纤维内染料的色光效果,许多还原染料只能通过皂煮才能充分发色;棉纤维染色后充分皂煮,在纤维腔中形成染料晶体,光密度增加,色光浓艳:棉纤维染色后经过皂煮,染料的定向发生变化,取向度增加,二色性发生变化。

以上所述是本发明的优选实施方式,应当指出,对于本技术领域的普通技术人员来说,在不脱离本发明原理的前提下,还可以做出若干改进和润饰,这些改进和润饰也视为本发明的保护范围。

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